化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長(zhǎng)設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備>CC-200 日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
CC-200 日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
- 公司名稱 玉崎科學(xué)儀器（深圳）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) CC-200
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/11/25 10:23:01
- 訪問次數(shù) 240
半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備PE-CVD設(shè)備單片PE-CVD設(shè)備實(shí)驗(yàn)室
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真空泵;離心機(jī),;監(jiān)測(cè)儀,真空系統(tǒng),除塵裝置,數(shù)字粉塵儀;粒子計(jì)數(shù)器,環(huán)境監(jiān)測(cè)設(shè)備,環(huán)境測(cè)量設(shè)備 環(huán)境檢測(cè)設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
負(fù)載鎖定等離子體CVD設(shè)備CC-200
負(fù)載鎖定等離子體CVD裝置CC-200體積小且易于使用，適用于從研發(fā)到生產(chǎn)的一切。
特征
27.12MHz高密度等離子工藝
SiH 4型：SiO 2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS 型：可提供 SiO 2薄膜
可使用CF 4 +O 2等離子體清潔腔室
與有機(jī)EL低溫成膜用加熱器兼容
通過托盤傳輸支持各種尺寸的電路板
真空箱允許在 C 系列單元之間進(jìn)行間接連續(xù)處理（濺射：CS-200，蒸發(fā)：CV-200）。
目的
功率器件
LED、LD、高速器件等相關(guān)化合物
有機(jī)EL開發(fā)
太陽能電池開發(fā)
微機(jī)電系統(tǒng)
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