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美國 UNIVERSITY WAFER 熔融石英晶圓 UV、JGS1、JGS2、JGS3

熔融石英晶圓是高純度二氧化硅的薄片，用于生產半導體芯片等電子設備。熔融石英，也稱為熔融石英，是一種高純度和透明的二氧化硅形式，是通過在高溫下熔化天然存在的石英砂制成的。熔融石英晶片具有很強的耐熱性、耐化學性和耐化學性，使其成為電子設備生產中的理想基板材料。由于透明度高、吸收光率低，它們還用于生產光學元件，例如鏡頭和鏡子。

熔融石英 JGS1、JGS2、JGS3

我們備有所有三個等級的庫存，供您各自的研究使用

用于評估熱膨脹和熒光/自發(fā)熒光特性的熔融石英基底

機械性能：

1. 密度：約 2.2 g/cm3。

2. 楊氏模量 （E）：通常在 72 GPa（千兆帕）左右，表明其剛度。

3. 泊松比：大約 0.17，這是相對收縮應變（橫向、橫向或徑向應變）與相對拉伸應變（或軸向應變）的比率。

4. 硬度：莫氏硬度在 7 左右，使其相對堅硬且耐刮擦。

5. 抗張強度：通常約為 48 MPa（兆帕）。表面缺陷會顯著降低實際拉伸強度。

6. 抗壓強度：超過 1 GPa，遠高于其抗拉強度。

7. 熱膨脹系數(shù)：非常低，約為 0.55 x 10??/°C，使其在很寬的溫度范圍內保持穩(wěn)定。

光學特性：

1. 折射率：在 589 nm（可見波長）處約為 1.4585。該值在不同波長上會略有變化。

2. 傳輸：熔融石英在紫外線 （UV） 到紅外線 （IR） 范圍內具有高度透明性。它具有出色的透射率，在紫外到近紅外范圍內通常超過 90%。

3. 阿貝數(shù)：約為 67.56，表明色散相對較低。

4. 雙 折射：熔融石英是各向同性的，當它不受應力時不會表現(xiàn)出雙折射。

5. 吸收：熔融石英在紫外到近紅外范圍內的吸收率最小，但在深紫外和遠紅外范圍內的吸收率會增加。