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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>CY-PECVD50-1200-Q 三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備

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CY-PECVD50-1200-Q 三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備

參考價 60000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CY-PECVD50-1200-Q
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/12/17 11:58:24
  • 訪問次數(shù) 89

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市*開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結(jié)設備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發(fā)團隊憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款*材料制備設備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,博導為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界*好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業(yè)務洽談。


管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機,切斷機,拋光機

詳情介紹:

三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備由等離子發(fā)生器,三溫區(qū)管式爐、射頻電源、真空系統(tǒng)組成。等離子增強CVD系統(tǒng)為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD), 該PECVD石墨烯薄膜制備設備借助13.56Mhz的射頻輸出等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在真空腔體內(nèi)形成等離子體,利用等離子的強化學活性,改善反應條件,利用等離子體的活性來促進反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。

在聚合物、陶瓷等基體材料中加入石墨烯可以顯著提高材料的機械性能、熱性能等。三溫區(qū) PECVD 制備的石墨烯可以更好地控制其在基體材料中的分散性和界面結(jié)合強度。例如,在環(huán)氧樹脂復合材料中,將 PECVD 制備的石墨烯均勻分散后,石墨烯與環(huán)氧樹脂之間能夠形成良好的界面相互作用,從而提高復合材料的拉伸強度、硬度和熱穩(wěn)定性,這種復合材料可用于航空航天、汽車制造等領(lǐng)域,用于制造高性能的結(jié)構(gòu)部件。

三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備


三溫區(qū)PECVD應用范圍:

等離子增強CVD系統(tǒng)可以用于:石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種試驗場所??稍谄瑺罨蝾愃菩螤顦悠繁砻娉练eSiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質(zhì)涂層、高duan裝飾等領(lǐng)域

 三溫區(qū)PECVD技術(shù)參數(shù): 

產(chǎn)品名稱

三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備

產(chǎn)品型號

CY-PECVD50-1200-Q

三溫區(qū)管式爐

工作溫度:0-1100℃

控溫精度:±1℃

控溫方式:AI-PID 30段工藝曲線,可存儲多條

爐管材質(zhì):高純石英

爐管尺寸:φ50mm I.D x 1400mm L

加熱溫區(qū):三溫區(qū) 200mm+200mm+200mm

密封方式:不銹鋼真空法蘭

極限真空度:4.4E-3Pa

射頻電源

輸出功率:0-300W zui大可調(diào)±1%

RF頻率: 13.56MHz,穩(wěn)定性±0.005%

噪聲:≤55DB

冷卻:風冷

質(zhì)量流量計

三路質(zhì)量流量計

閥門類型:不銹鋼針閥

氣路數(shù)量:三路

承壓范圍:-0.15Mpa~0.15Mpa

量程

1~200 SCCM

1~200 SCCM

1~500 SCCM

流量控制范圍:±1.5%

氣路材料:304不銹鋼

管道接口:6.35mm卡套接頭

真空系統(tǒng)

配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作

600L/S

水冷系統(tǒng)

CW-3200

電壓

220V 50H



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