光學(xué)接觸角形貌聯(lián)用儀
- 公司名稱 瑞典百歐林科技有限公司
- 品牌 Biolin/瑞典百歐林
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/3/25 11:07:52
- 訪問(wèn)次數(shù) 62
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瑞典百歐林科技有限公司是一家*科研儀器生產(chǎn)商，在北歐的瑞典，丹麥和芬蘭都有主要產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)基地。我們?yōu)橛脩籼峁└呖萍肌⒏呔鹊目蒲性O(shè)備，可用于表界面、材料科學(xué)、生物科學(xué)、藥物開(kāi)發(fā)與診斷等研究領(lǐng)域。
我們同時(shí)專注于用戶的技術(shù)和應(yīng)用支持，以及科技的發(fā)展與進(jìn)步。我們的產(chǎn)品均基于*的測(cè)量技術(shù)，而這些技術(shù)，或?yàn)槲覀?，或?yàn)槲覀?，或在*科研與發(fā)展中占主導(dǎo)地位。我們的核心戰(zhàn)略是，通過(guò)尋找具有廣闊商業(yè)前景的科研領(lǐng)域，來(lái)應(yīng)用我們的產(chǎn)品與技術(shù)。我們的現(xiàn)階段包含三大產(chǎn)品線：
QSense：用于研究大分子界面以及相互作用的分析儀器
QSense Pro耗散型全自動(dòng)八通道石英晶體微天平；
QSense Omni下一代全自動(dòng)四通道石英晶體微天平；
QSense Analyzer四通道石英晶體微天平QCM-D；
QSense Explorer單通道擴(kuò)展版QCM-D；
QSense Initiator單通道基礎(chǔ)版QCM-D；
KSV NIMA：?jiǎn)畏肿訉颖∧さ臉?gòu)建與表征工具
LB（Langmuir-Blodgett）膜分析儀；
氣液、液液/氣固界面上有序單層和多層結(jié)構(gòu)的組裝和表征
布魯斯特顯微鏡；
無(wú)損實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)空氣/水界面處分子層的圖像
界面剪切流變儀；
高靈敏度測(cè)量液體界面處的流變性能
浸漬鍍膜機(jī)；
無(wú)振動(dòng)，可程序控制的固體樣品浸漬方案
界面紅外反射吸收光譜儀
用于薄膜和漂浮的單分子層膜的*的表面光譜方法
Attension：界面科學(xué)與材料技術(shù)所用的表面張力測(cè)量設(shè)備
光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x/表界面張力儀 Theta/Theta Lite/Theta QC光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x
力學(xué)法表界面張力儀Sigma 700/701/702/702ET/703D表/界面張力儀
主要的客戶來(lái)自于學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)、科研單位以及企業(yè)研發(fā)部門。在科研領(lǐng)域，用戶使用我們的儀器作為分析工具，以更好地開(kāi)展基礎(chǔ)或應(yīng)用研究，獲取和發(fā)表優(yōu)異的科研結(jié)果。在工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域，分析儀器同時(shí)用于基礎(chǔ)研究和質(zhì)量控制過(guò)程。我們的主要工業(yè)用戶均為各領(lǐng)域性的*。目前，百歐林的用戶已遍布70多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。
中國(guó)代表處:
上海市浦東新區(qū)祖沖之路2290弄展想廣場(chǎng)1號(hào)樓1205室
電話 86 21 6837 0071/68370072
石英晶體微天平，耗散型石英晶體微天平，QCM-D，LB膜分析儀，布魯斯特角顯微鏡，界面剪切流變儀，光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x，表面張力測(cè)量?jī)x，薄膜制備與分析儀器
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器類型 | 實(shí)驗(yàn)室臺(tái)式 | 儀器種類 | 表面張力儀（界面張力儀） |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
可與Attension Theta光學(xué)接觸角儀聯(lián)用的的3D形貌模塊是第一款能夠同時(shí)提供3D表面粗糙度和接觸角信息，從而實(shí)現(xiàn)原位測(cè)量這兩個(gè)參數(shù)的產(chǎn)品。OneAttension軟件能夠基于測(cè)量結(jié)果自動(dòng)計(jì)算粗糙度校正后的真實(shí)接觸角值和表面自由能。儀器操作簡(jiǎn)單，測(cè)量快速。通過(guò)區(qū)分表面化學(xué)性質(zhì)、涂層配方、表面改性所引起的粗糙度對(duì)表面性質(zhì)的影響，可引的領(lǐng)工業(yè)研發(fā)進(jìn)程邁入一個(gè)全新的水平。
光學(xué)接觸角形貌聯(lián)用儀應(yīng)用
許多用于優(yōu)化潤(rùn)濕性和粘附性能的表面改性和涂層技術(shù)都會(huì)對(duì)材料表面化學(xué)和粗糙度造成一定的影響。了解這兩個(gè)因素對(duì)潤(rùn)濕性影響的機(jī)理，可使之成為在產(chǎn)品研發(fā)過(guò)程和質(zhì)量控制中的有力工具。粗糙度修正的接觸角也能夠用于計(jì)算粗糙表面上的基本表面自由能。3D形貌模塊可以用于研究微觀尺度的粗糙度，許多應(yīng)用中都需要考慮這一因素，例如：
建筑與建筑材料
建筑材料的涂層和表面處理對(duì)增強(qiáng)材料的外觀和耐久性非常重要。涂料和膠合板等不同類型涂層的粘附性取決于它們的表面性質(zhì)。表面形貌和表面化學(xué)都對(duì)粘附性和潤(rùn)濕性有影響。Theta光學(xué)接觸角儀可用于評(píng)估表面處理質(zhì)量及其對(duì)潤(rùn)濕能力的影響。
生物復(fù)合材料的相容性
金屬、陶瓷、聚合物等多種材料都可作為醫(yī)療領(lǐng)域中的植體。植體表面通常通過(guò)機(jī)械粗糙化和化學(xué)處理來(lái)進(jìn)行改性，從而提高其與周圍寄主組織的生物相容性。區(qū)分化學(xué)處理和機(jī)械處理對(duì)水接觸角值的影響，對(duì)植體的研發(fā)和質(zhì)量控制意義重大。
紙張涂層
優(yōu)化紙張表面的潤(rùn)濕性和粘附性，對(duì)確保如在印刷和包裝等行業(yè)的各種轉(zhuǎn)換和精加工操作的質(zhì)量和運(yùn)行能力起到至關(guān)重要的作用。如用顏料涂層對(duì)原紙進(jìn)行涂層，用以提供一個(gè)可用于打印的光滑表面，或者在包裝應(yīng)用中，通過(guò)蠟涂層來(lái)保證阻擋氣味和氣體傳輸。紙張表面通常所具有的微米尺度的粗糙度影響著潤(rùn)濕性和粘附力及其表面化學(xué)應(yīng)用。因此，了解粗糙度對(duì)潤(rùn)濕性的影響可簡(jiǎn)化涂料配方和優(yōu)化表面處理工藝，從而更好地理解質(zhì)量問(wèn)題的根源所在。
?技術(shù)與實(shí)驗(yàn)
潤(rùn)濕性通常由接觸角實(shí)驗(yàn)來(lái)研究，由應(yīng)用于理想表面的著名的楊氏方程定義。表面自由能的理論也是基于使用楊氏接觸角來(lái)進(jìn)行計(jì)算。通常，表面被假設(shè)成化學(xué)性質(zhì)均勻、形貌均一、光滑的平面，然而真實(shí)表面并非如此。表面粗糙度是可以增強(qiáng)潤(rùn)濕行為和影響粘附力行為的一種處理方式。
可與Attension Theta光學(xué)接觸角儀聯(lián)用的的3D形貌模塊，使用戶能夠定義楊氏接觸角和表面自由能測(cè)量，并根據(jù)Wenzel理論對(duì)粗糙表面的測(cè)量。粗糙度修正的接觸角能夠使用戶了解粗糙度和表面化學(xué)組成分別對(duì)表面潤(rùn)濕性的影響。使用高準(zhǔn)確度的XYZ自動(dòng)樣品臺(tái)，用戶能夠同時(shí)原位進(jìn)行測(cè)量并繪制完整的表面形貌圖，從而研究表面均勻性和清潔度。
用戶使用3D形貌模塊可以得到如下參數(shù)：
-θc，粗糙度修正的接觸角
-3D和2D形貌參數(shù)和視圖
3D 粗糙度圖像和參數(shù)： Sdr, Sa 和Sq.
2D 粗糙度圖像和參數(shù)： Ra, Rq, Rp, Rv, Rz 和 R10z
技術(shù)指標(biāo)
硬件
尺寸: 7 cm x 16.5 cm x 11.5 cm |
重量: 2.6 kg |
電壓: 100…240 VAC |
頻率: 50-60 Hz |
系統(tǒng)要求
計(jì)算機(jī)： 2G處理器，2G內(nèi)存，40G硬盤（20G空閑），1024x768分辨率，2個(gè)USB口，1個(gè)火線接口或1個(gè)PCI插槽 |
推薦使用防震臺(tái)或大理石實(shí)驗(yàn)臺(tái) |
要求配置：XYZ全自動(dòng)樣品臺(tái) |
其他指標(biāo)
方法名稱：基于條紋投影相移原理 |
XY像素大小: 1.1 μm x 1.1 μm |
Z方向測(cè)量范圍: 1 μm – 60 μm |
橫向采樣: 1.41 mm x 1.06 mm (XY). (圖像粘貼選項(xiàng)： 4.2 mm x 4.2 mm) |
工作距離:18 mm |
樣品臺(tái)上的最大樣品尺寸: Unlimited x 180 mm x 22 mm (L x W x H) |
成像選項(xiàng): 光學(xué)圖像, 2D粗糙度圖, 3 D粗糙度圖 |
每個(gè)實(shí)驗(yàn)的測(cè)量時(shí)間：5-30 s (1280 x 960，實(shí)驗(yàn)點(diǎn)) |
分析參數(shù)(ISO 4287, ISO 4288): r (Wenzel 方程) θc, 粗糙度校正接觸角/Wenzel接觸角 Sdr (%), Sa (um), Sq (um) 水平、垂直和 2D 線形區(qū)域的Ra, Rq, Rp, Rv, Rz, R10z |
波紋過(guò)濾：高斯高通濾波器（ISO 11562） |
樣品要求/局限性：需要漫反射樣品 |
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