日本Otsuka大塚 薄膜離線型掃描膜厚儀
- 公司名稱 成都藤田科技有限公司
- 品牌 OTSUKA/日本大塚
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2025/2/21 16:36:44
- 訪問次數(shù) 91
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產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
日本Otsuka大塚 薄膜離線型掃描膜厚儀-成都藤田科技提供
產(chǎn)品信息
特點(diǎn)
● 全面高速高精度進(jìn)行薄膜等面內(nèi)膜厚不均一性檢測
● 硬件&軟件均為創(chuàng)新設(shè)計
● 作為專業(yè)膜厚測定廠商,提供多種支援
● 實(shí)現(xiàn)高精度測量
● 實(shí)現(xiàn)高速測量(500萬點(diǎn)以上/分)
產(chǎn)品規(guī)格
測量范圍 | 0.1~300 μm |
測量寬度 | 250 mm |
測量間隔 | 1 ms~ |
設(shè)備尺寸(W×D×H) | 459×609×927 mm |
重量 | 60 kg |
功耗 | AC100 V±10% 125 VA |
測量例
250mm寬的薄膜案例
核心特點(diǎn):
微區(qū)測量能力:最小光斑直徑3μm,搭配自動XY平臺(200×200mm),實(shí)現(xiàn)晶圓、FPD(如OLED、ITO膜)等微小區(qū)域的精準(zhǔn)厚度分布映射。
跨行業(yè)適用性:專為半導(dǎo)體(SiO?/SiN膜)、顯示面板(彩色光阻)、DLC涂層等行業(yè)設(shè)計,支持粗糙表面、傾斜結(jié)構(gòu)及復(fù)雜光學(xué)異向性樣品的分析。
安全與擴(kuò)展性:區(qū)域傳感器觸發(fā)防誤觸機(jī)制,獨(dú)立測量頭支持定制化嵌入,滿足在線檢測(inline)與實(shí)驗(yàn)室研發(fā)需求。
日本Otsuka大塚 薄膜離線型掃描膜厚儀-成都藤田科技提供
非破壞性高速測量:采用顯微分光技術(shù),1秒內(nèi)完成單點(diǎn)對焦與測量,支持從紫外(230nm)到近紅外(1600nm)廣波長范圍,覆蓋1nm至92μm膜厚需求,滿足半導(dǎo)體、光學(xué)材料等高精度場景。
透明基板技術(shù):反射對物鏡設(shè)計,物理消除基板內(nèi)部反射干擾,實(shí)現(xiàn)玻璃、SiC等透明或異向性基板上的高精度膜厚測量,支持50層以上多層膜解析。
智能建模與易用性:內(nèi)置初學(xué)者模式,簡化光學(xué)常數(shù)(n/k)建模流程,支持宏功能自定義測量序列,可無縫集成自動化產(chǎn)線。