宣城0.5噸半導體小型超純水設備工藝主要包括以下環(huán)節(jié)：

1. 預處理階段

• 原水增壓泵：對原水進行增壓，為后續(xù)處理提供動力，確保水能夠順利流經(jīng)后續(xù)的過濾單元。

• 機械過濾器：通過濾料（如石英砂、無煙煤等）去除水中較大的顆粒物、懸浮物和部分膠體，降低水的濁度，保護后續(xù)設備。

• 活性炭過濾器：利用活性炭的吸附性能，去除水中的余氯、有機物、異味和部分重金屬離子，改善水的口感和氣味，防止后續(xù)的反滲透膜被氧化。

2. 反滲透系統(tǒng)

• 高壓泵：將經(jīng)過預處理的水加壓到較高壓力，滿足反滲透膜分離所需的壓力條件，一般操作壓力在1.0 - 1.5MPa之間。

• 反滲透膜組件：在高壓作用下，水分子透過反滲透膜，從高濃度一側向低濃度一側遷移，而大部分溶解性鹽類、膠體、微生物、有機物等被截留，使產水達到一定的純度。

3. 深度脫鹽與精處理

• 離子交換柱：包括陽離子交換柱和陰離子交換柱，進一步去除水中的離子。陽離子交換柱去除水中的陽離子，陰離子交換柱去除水中的陰離子，通過離子交換樹脂的作用，將水中的離子替換為氫離子和氫氧根離子。

• EDI裝置（可選）：連續(xù)電去離子裝置，在電場作用下，通過離子交換膜和離子交換樹脂，持續(xù)去除水中的離子，可進一步提高水的純度。

4. 后處理與終端拋光

• 紫外線殺菌器：采用紫外線照射殺滅水中的微生物，破壞其DNA結構，確保產水無菌。

• 終端過濾器：常用微孔濾膜過濾器，如0.22微米的濾膜，進一步去除水中可能殘留的微小顆粒和微生物，保證產水的質量和安全性。

• 拋光混床（可選）：對于超純水要求高的情況，可使用拋光混床進行最后的離子交換拋光處理，以獲得超高質量的超純水。

綜上所述，通過這些工藝步驟，宣城0.5噸半導體小型超純水設備能夠制備出符合半導體行業(yè)用水標準的超純水，滿足半導體芯片制造過程中的清洗、蝕刻等工藝對水質的嚴格要求。