在集成電路黃光制程中，晶體基片黑化后的顏色判別是影響光刻膠曝光精度的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。傳統(tǒng)方法依賴人工目視評判基片黑化程度和均勻性，易受環(huán)境光照差異、人眼疲勞及主觀判斷偏差等因素干擾，導致評估一致性差、良品率波動顯著（通常損失5%-10%）。尤其在濾波芯片制造中，納米級線寬要求基片反射率誤差需控制在±0.5%以內(nèi)，目視檢測難以滿足精度需求。

NeoColor 90晶體基片黑化色度分析儀采用全波段光譜捕捉（360-780nm），反射分辨率達0.01%，重復測量精度達到ΔE*ab≤0.02，確保黑化層色度的測量和品控符合工藝標準。

符合標準

符合標準CIE No.-15， GB/T 30118-2013，GB/T 3978，GB 2893，GB/T 18833，ISO7724-1，ASTM E1164，DIN5033 Teil7

測量參數(shù)

光譜反射率,CIE-Lab, CIE-LCh, HunterLab, CIE-Luv, XYZ, Yxy, RGB

色差值

ΔE*ab,ΔE*cmc,ΔE*94,ΔE*00

工業(yè)指標

黑度（My,dM）

黃度(ASTM D1925,ASTM E313-00,ASTM E313-73)

Tint(ASTM E313-00)

色密度CMYK(A,T,E,M)

同色異譜指數(shù)MI

遮蓋力

力份(染料強度,著色力)

NeoColor 90晶體基片黑化色度分析儀技術(shù)規(guī)格

測量結(jié)構(gòu)：D/8，SCI+SCE

積分球直徑：40mm

分光方式：光柵

感應器：雙陣列高精度CMOS傳感器

照明光源：LED(全波段均衡LED光源)+UV

波長間隔：10nm

波長范圍：400-700nm

反射率測定范圍：0-200%

反射率分辨率：0.01%

測量重復性/穩(wěn)定性：

色度值: 標準偏差值dE*ab≤ 0.02(白板校準后以5秒間隔測量白板30次)
光譜反射率： 標準偏差小于0.08%

臺間差：ΔE*ab≤0.20（BCRA系列Ⅱ 12塊色板測量平均值）

顯示精度：0.01

測量時間：小于2秒

視角：2°，10°

測量/照明口徑：MAV:Φ8mm/Φ11mm；SAV:Φ4mm/Φ6mm；MINI:1*3mm

攝像頭取景定位：有

校準：智能自動校準

接口：USB，藍牙

屏幕：IPS全彩屏幕3.5英寸

存儲：儀器100條標準，10000條批次樣存儲。

光源壽命：10年100萬次

電池容量：單次充電可連續(xù)測量8000次，3.7V/3000mAh

語言：簡體中文，英語

軟件支持：Windows