試劑
以下含有zhi定的側鏈保護基團 Fmoc 氨基酸購自 CEM Corporation (Matthews, NC) 并:Ala、Arg (Pbf)、Gly、His (Boc)、Ile、Leu、Lys (Boc)、Thr (tBu) )、Trp (Boc)、Tyr (tBu) 和 Val。Rink Amide ProTideTM LL 樹脂也購自 CEM Corporation。Fmoc-Glu-ODmab、Fmoc-Glu(Wang)-ODmab LL 樹脂、FmocD-Ala- OH 和 Fmoc-4-氟-L-苯丙氨酸購自 EMD Millipore (Burlington, MA)。Fmoc-D-2-Nal-OH、FmocD-Nle-OH 和 Fmoc-N-甲基-L-苯丙 氨酸購自 Bachem (T orrance, CA)。Fmoc-N-甲基-異亮氨酸-OH 購自 Advanced ChemTech (Louisville, KY)。FmocN-甲基-亮氨酸-OH 購自 Alfa Aesar (Haverhill, MA)。水合肼、N,N-二異丙基乙胺(DIEA)、Fmoc-N-甲基-甘氨酸-OH、N,N'-二異丙基碳二亞胺 (DIC)、哌啶、吡咯烷、三fu乙suan (TFA)、3,6-dioxa-1、 8 辛二硫醇(DODT) 和三異丙基硅烷 (TIS) 購自 Sigma-Aldrich (St. Louis, MO)。N,N-二甲基甲酰胺 (DMF)、無水乙mi (Et2O) 和乙酸購自 VWR (Radnor, PA)。LC-MS 級水 (H2O) 和 LC-MS 級乙腈 (MeCN) 購自 Fisher Scientific (Hampton, NH) 。
多肽合成:CEM 7-mer, cyclo-[GVYLHIE]
使用 CEM Liberty Blue 自動微波多肽合成儀,在 Fmoc- Glu(Wang)- ODmab 樹脂(離子交換容量:0.025 meq/g)上,以 0.10 mmol 的規(guī)模合成(Dmab 脫保護以0.05 mmol 規(guī)模進行,首尾環(huán)化以 0.025 mmol的規(guī)模進行)。使用 DMF 中的哌啶進行脫保護。
偶聯(lián)反應在5倍量的Fmoc氨基酸,DIC和Oxyma Pure(CarboMAX)5 中進行。使用肼的 DMF 溶液進行 ODmab 基團的脫保護。首尾環(huán)化反應使用 DMF 中的 DIC/HOBt 進行。在 CEM RazorTM 高通量多肽切割系統(tǒng)中使用 TFA/H2O/TIS/DODT 進行切割。裂解后無水乙mi沉淀肽并過夜凍干。
圖2:CEM 7-mer
多肽合成:Cyclorasin A, cyclo-[WTaRRR-nal-R-Fpa-nle-Q] (Liberty Blue)使 用 CEM Liberty Blue 自 動 微 波 多 肽 合 成 儀 , 在 Rink Amide ProTide LL 樹脂 (離子交換容量:0.19 meq/g )上,以 0.05 mmol 的規(guī)模合成(Dmab脫保護以 0.05 mmol 的規(guī)模進行,首尾環(huán)化以 0.025 mmol 的規(guī)模進行)。使用 DMF 中的哌啶進行脫保護。偶聯(lián)反應在5倍Fmoc氨基酸、DIC和Oxyma Pure(CarboMAX)5中進行。Fmoc-Glu-ODmab 用做第一個氨基酸(Q)。使用肼的 DMF 溶液進行 ODmab 基團的脫保護。首尾環(huán)化反應使用 DMF 中的 DIC/HOBt 進行。在 CEM RazorTM 高通量多肽切割系統(tǒng)中使用 TFA/H2O/TIS/DODT 進行切割。裂解后用無水乙mi沉淀肽并過夜凍干。
多肽合成:Cyclorasin A, cyclo-[WTaRRR-nal-R-Fpa-nle-Q](Liberty PRIME)
使用 CEM Liberty PRIME 自動微波多肽合成儀,在 Rink Amide ProTide LL 樹脂(離子交換容量:0.19 meq/g)上,以 0.05 mmol 規(guī)模合成(Dmab脫保護以 0.05 mmol 的規(guī)模進行,首尾環(huán)化以 0.025 mmol 的規(guī)模進行)。使用 DMF 中的吡咯烷進行脫保護。偶聯(lián)反應在5倍 Fmoc 氨基酸、DIC和Oxyma Pure(CarboMAX)5中進行。Fmoc-Glu-ODmab 用做第一個氨基酸(Q)。使用肼的 DMF 溶液進行 ODmab 基團的脫保護。使用肼的 DMF 溶液進行 ODmab 基團的脫保護。首尾環(huán)化反應使用 DMF 中的 DIC/HOBt 進行。在 CEM RazorTM 高通量多肽切割系統(tǒng)中使用 TFA/H2O/TIS/ DODT 進行切割。裂解后用無水乙mi沉淀肽并凍干過夜。

圖3:Cyclorasin A
多肽合成:N-MethylCyclorasinAnalog, cyclo-[WTaR-NMeGly- NMePhe-nal-NMeGly-Fpa-nle-E]使用 CEM Liberty PRIME 自動微波肽合成儀在 Fmoc-Glu (Wang ) -ODmab 樹脂(離子交換容量:0.25 meq/g )上以 0.05 mmol 的 規(guī)模合成(Dmab 脫保護以 0.05 mmol 規(guī)模進行,首尾環(huán)化以 0.025 mmol 的規(guī)模進行)。使用 DMF 中的吡咯烷進行脫保護。偶聯(lián)反應在5倍 Fmoc 氨基酸、DIC和Oxyma Pure(CarboMAX)5中進行。使用肼的 DMF 溶液進行 ODmab 基團的脫保護。首尾環(huán)化反應使用 DMF 中的 DIC/HOBt 進行。在CEM RazorTM高通量多肽切割系統(tǒng)中使用 TFA/H2O/TIS/DODT 進行切割。裂解后用無水乙mi沉淀肽 并凍干過夜。

圖4:N-Methyl Cyclorain Analog
多肽合成:Poly N-Methyl Peptide, cyclo-[KA-NMeIle-NMeGly-NMeLeu-A-NMeGly-NMeGly-E]使 用 CEM Liberty PRIME 自 動 微 波 肽 合 成 儀 在 Fmoc-Glu (Wang )-ODmab 樹脂(離子交換容量:0.25 meq/g )上以 0.1 mmol 的規(guī)模合成(Dmab 脫保護以 0.05 mmol 規(guī)模進行,首尾環(huán)化以 0.025 mmol 的規(guī)模進行)。使用 DMF 中的吡咯烷進行脫保護 。偶 聯(lián) 反 應 在 5 倍 Fmoc 氨 基 酸 、 DIC和Oxyma Pure(CarboMAX)5中進行。使用肼的 DMF 溶液進行 ODmab 基團的脫保護。首尾環(huán)化反應使用 DMF 中的 DIC/HOBt 進行。在 CEM RazorTM 高通量多肽切割系統(tǒng)中使用 TFA/H2O/TIS/DODT 進行切割。裂解后用無水乙mi沉淀肽并凍干過夜。

圖5: Poly N-Methyl Peptide
在配備有 PDA 檢測器的 Waters Acquity UPLC 系統(tǒng)上分析肽, 該 檢 測 器 配 備 Acquity UPLC BEH C8 柱 (1.7 mm 和 2.1 x 100 mm)。UPLC 系統(tǒng)連接到 Waters 3100 Single Quad MS 用于結構測定。在 Waters MassLynx 軟件上進行峰分析。使用 (i) H2O 和 (ii) MeCN 中的 0.05% TFA 梯度洗脫進行分離。