FR-ES: 精簡薄膜厚度測量特性分析系統(tǒng)

1、膜厚儀應(yīng)用
o 大學(xué) & 研究實驗室
o 半導(dǎo)體
o 聚合物和光刻膠 厚度測量
o 化學(xué)測量
o 介電材料膜厚度測量
o 生物醫(yī)學(xué)
o 硬涂層，陽極氧化， 金屬零件加工
o 光學(xué)鍍膜
o 非金屬薄膜
o 還有更多…（請聯(lián)系我們提出您的應(yīng)用）

FR-ES機型提供出色的膜厚測量分析性能?？捎糜诟鞣N不同的應(yīng)用，例如：薄膜厚度、折射率、顏色、透射率、反射率等等.

FR-ES機型提供三種波長范圍配置: VIS/NIR (370- 1020nm, NIR-N1 (850-1050nm), NIR (900-1700nm).

      這里有很多可選的配件：

• 濾光片可阻擋某些光譜范圍內(nèi)的光

• FR-Mic提供微米級別區(qū)域進行測量

• 手動載物臺,  100x100mm或 200x200mm

• 薄膜/比色皿支架用于吸光度/透射率和化學(xué)濃度測量的薄膜/比色皿支架

• 積分球積分球用于漫反射和全反射反射率測量

      通過不同模塊的組合設(shè)置滿足任何蕞終用戶的需求。

2、特征

o    單擊分析（無需初始值)

o    動態(tài)測量連續(xù)測量

o    n & k、色座標(biāo)測量

o    保存測量的圖像和視頻

o    Multiple installations for off-line analysis

o    免廢軟件更新

3、FR-ES規(guī)格(標(biāo)準(zhǔn)配置)

4、配件

5、膜厚測量儀工作原理

      白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光，在經(jīng)多層或單層薄膜反射后，經(jīng)各層薄膜介面界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜（透明，半透明或全反射襯底）的厚度及 N*K 光學(xué)常數(shù)。

      *規(guī)格如有更改，恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍，是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。