如今，離子束蝕刻技術(shù)是應(yīng)用廣泛的電子顯微鏡樣品制備方法。在蝕刻過(guò)程中，高能氬離子束轟擊樣品，并根據(jù)其應(yīng)用領(lǐng)域調(diào)整離子束能量和切割角度。
在制備掃描電子顯微鏡樣品時(shí)，離子束蝕刻可改善或修改樣品表面質(zhì)量。
首先，離子束刻蝕能夠清潔、拋光或增加表面的襯度。經(jīng)離子束處理的樣品表面足以適用于各種靈敏的表面性能測(cè)試方法（如EBSD）。
另外，離子束刻蝕也可以通過(guò)斜面切割制備樣品的橫截面。
徠卡EM TIC 3X是一款離子束研磨儀，用于制備掃描電子顯微鏡樣品。可以制備樣品的橫截面以及大面積表面。
樣品的橫截面還可以使用低能離子束再次處理。該處理過(guò)程既可以清洗橫截面，也能增強(qiáng)其襯度。
另外，EM TIC 3X可以通過(guò)離子束拋光工藝改進(jìn)樣品的機(jī)械拋光表面。樣品表面的最大離子束制備直徑為
25mm，最大樣品直徑為38mm。
離子束拋光可以清洗、拋光樣品表面，并增強(qiáng)其襯度，可以在一臺(tái)儀器中完成所有類(lèi)型的掃描電子顯微鏡樣品制備流程。
該儀器配備了一個(gè)模塊化的系統(tǒng)，可配置5種適用于不同應(yīng)用的樣品臺(tái)：標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)，冷凍樣品臺(tái)，多樣品臺(tái)，旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)和預(yù)抽真空系統(tǒng)，用以轉(zhuǎn)移冷凍樣品或易氧化的樣品。EM TIC 3X的各樣品臺(tái)之間可以輕松轉(zhuǎn)換。
標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)適用于眾多不同尺寸、形狀和材料的樣品。冷凍樣品臺(tái)可制備對(duì)熱敏感的樣品，以防樣品熱損傷。最后，多樣品臺(tái)無(wú)須操作人員干預(yù)即可連續(xù)制備3個(gè)樣品，保證高樣品制備效率。
旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可以處理直徑達(dá)38mm的樣品表面。
整個(gè)樣品制備過(guò)程和進(jìn)展可以通過(guò)體視顯微鏡實(shí)時(shí)觀察。另外，也可以選配內(nèi)置相機(jī)拍攝存儲(chǔ)樣品照片。
TIC3X是一款將所有組件結(jié)合在一個(gè)外殼內(nèi)的臺(tái)式儀器。該儀器采用三離子束技術(shù)。三離子束與擋板擋板邊緣相交形成100°的切割扇區(qū)。該儀器使用鞍形場(chǎng)離子源，在離子束電壓10kV和電流3 mA的條件下，切割速率可達(dá)300 µm/小時(shí)。
使用三離子束技術(shù)無(wú)需在離子研磨過(guò)程中移動(dòng)樣品。
我們將在下面詳細(xì)討論這項(xiàng)技術(shù)帶來(lái)的眾多益處。這些優(yōu)點(diǎn)確保了高水平的制備質(zhì)量。
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徠卡顯微系統(tǒng)（上海）貿(mào)易有限公司 |
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