一、V2MS17-真空氧化爐基本原理與特點(diǎn)
1. 基本原理
真空硅鉬棒爐為氣體保護(hù)多用途爐，可滿(mǎn)足在還原氣體或成型氣體氣氛中對(duì)藍(lán)寶石退火，還原、燒結(jié)和表面處理等工藝需要，廣泛應(yīng)用于航空航天、金屬材料、粉末冶金、陶瓷產(chǎn)品、半導(dǎo)體器件、厚膜電路、磁性材料等領(lǐng)域。
2.設(shè)備特點(diǎn)
1）具備完善的報(bào)警功能，更的安全連鎖保護(hù)系統(tǒng)；
2）完善的氣氛控制系統(tǒng)，滿(mǎn)足各種工藝需要；
3）高性能優(yōu)質(zhì)電氣元件保證設(shè)備長(zhǎng)期運(yùn)行的穩(wěn)定可靠性；
4）低負(fù)荷加熱器，可有效提高設(shè)備的使用壽命。
二、V2MS17-真空氧化爐主要技術(shù)參數(shù)
編號(hào) | V2MS17 |
產(chǎn)品型號(hào) | VHSms-20/20/30-1700 |
最高設(shè)計(jì)溫度（ ℃ ） | 1700 |
加熱元件 | 硅鉬棒 |
加熱功率（kW） | 12 |
冷態(tài)極限真空度（ Pa ） | 6.7x10-2Pa（空爐、冷態(tài)、經(jīng)凈化） |
測(cè)溫元件 | 鎢錸熱電偶 |
升溫速率 | 1~10℃/min |
溫度均勻性 | ±5℃（5點(diǎn)測(cè)溫，恒溫區(qū)1000℃保溫1h后檢測(cè)） |
爐膛尺寸（mm） | 200x200x300（WxHxD） |
可充氣氛 | 氮?dú)?氬氣一路 |
設(shè)備外形尺寸（ mm ） | 1425x1550x1850mm(DxWxH) |
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