金屬納米膠體/納米顆粒制備儀
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韓國納米技術(shù)公司(Nano Technology Co.,Ltd.,簡稱NTi)是家致力于納米材料制備的高科技企業(yè),其生產(chǎn)的金屬納米膠體/納米顆粒制備儀,采用PWE(脈沖金屬絲蒸發(fā))技術(shù),將金屬絲直接轉(zhuǎn)化為納米顆粒、納米顆粒分散液,適用于所有金屬、合金;設(shè)備操作簡便,運行成本低;無需化學(xué)試劑,無副產(chǎn)品,僅需電能,無污染,環(huán)境友好。
應(yīng)用域:
- 納米膠體、導(dǎo)電墨水、高導(dǎo)電膠
- 導(dǎo)電聚合物填料、添加劑、催化劑、生化技術(shù)
設(shè)備型號
金屬納米膠體制備儀
主要點:
- 僅需步,直接形成金屬納米顆粒分散液,避免納米顆粒聚集
- 球形納米膠體, 平均粒度30nm以下
- 適用于所有金屬、合金,如 Al, Ti, Zr, W, Fe, Co, Ni, Cu, Ag, Zn, Sn, Pt, Au etc.
- 可以選擇各種不同溶劑,如蒸餾水、酒精、潤滑油、各種有機溶劑、礦物溶劑等
- 可設(shè)定所需納米膠體的濃度
- 內(nèi)置超聲波功能, 改善分散功能
- 具有抗氧化的燃氣供應(yīng)裝置功能
- 環(huán)保,*沒有副產(chǎn)物, 不需要去除異物的后處理工程
應(yīng)用方向:
-納米膠體、導(dǎo)電墨水、高導(dǎo)電膠
-導(dǎo)電聚合物填料、添加劑、催化劑、生化技術(shù)
基本參數(shù):
NTi 10C | NTi 20C | NTi 40C | |
可能粉末種類 | 導(dǎo)電性金屬 | ||
平均粒徑 | 5~50 nm | 5-30 nm | 5-30 nm |
產(chǎn)率 (以銀為標準) | 1,000ppm, 800 ml/hr | 5,000ppm, 1l/hr | 800ppm, 20l/hr |
金屬納米粉末制備儀
主要點:
操作簡單,隨時隨地方便的制備納米顆粒
- 原料:金屬絲; 產(chǎn)出:納米顆粒
適用于幾乎所有金屬、合金,及金屬氧化物
- 高純度
- 可以制備高熔點金屬納米顆粒,例如鎢(W)
通過控制反應(yīng)環(huán)境,改變產(chǎn)物性
- 不同反應(yīng)氣氛,可得到金屬、合金、陶瓷納米顆粒
- 可對顆粒表面進行碳包覆等處理
用脈沖電流加熱,能量用效率高,維護成本低
- 無副產(chǎn)品,環(huán)境友好
- 不同型號,適用于實驗室及工業(yè)生產(chǎn)
基本參數(shù):
科研型 | 工業(yè)型 | ||
NTi 10P | NTi 30P | NTi 300P | |
可能粉末種類 | 導(dǎo)電性金屬 | ||
平均粉末大小 | 100 nm | ||
產(chǎn)率 (以銅為標準) | 10 g/h | 50 g/h | 350 g/h |
測試數(shù)據(jù)
■ 用NTi納米顆粒膠體儀制備鎳、鐵納米顆粒膠體溶液,并通過磷化處理制備新型自支撐電
( A ) Ni納米顆粒及經(jīng)過不同磷化處理所得Ni2P-400、500和600的XRD圖譜。( B ) Ni納米顆粒的SEM圖像( 內(nèi)圖:Ni納米顆粒的高倍圖像)。( C ) Ni2P – 400的SEM圖像。( D ) Ni2P – 500的SEM圖像。( E ) Ni2P – 600的SEM圖像。
參考文獻:Hyun Jung Shin, Sung-Woo Park, Dong-Wan Kim. Highly active and stable electrocatalytic transition metal phosphides (Ni2P and FeP) nanoparticles on porous carbon cloth for overall water splitting at high current density. Int J Energy Res. 2020;1–14.
■ 用NTi 10P制備的銀納米顆粒粉體
XRD圖像 | SEM圖像 |
■ 用NTi 10P制備的銅納米顆粒粉體
XRD圖像 | SEM圖像 |
■ 用NTi 10P制備的有碳包裹的銅鎳合金顆粒粉體
■ 用NTi 20C制備的銅納米顆粒膠體
■ 用NTi 20C制備的鎳納米顆粒膠體
■ 用NTi 20C制備的黃銅納米顆粒膠體
發(fā)表文章
用戶單位
公州國立大學(xué)
韓國原子力研究院
世宗大學(xué)
慶星大學(xué)
工業(yè)科學(xué)技術(shù)研究所(RIST)
亞洲大學(xué)
釜山大學(xué)
漢陽大學(xué)
韓國工業(yè)技術(shù)研究所
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