一般來說高真空蒸發(fā)鍍膜儀就是將靶材在真空的環(huán)境下加以高溫，使其以原子團(tuán)或者離子的形式被蒸發(fā)出來，然后在將基片防于真空倉中讓這些原子團(tuán)或離子沉淀在基片之上，在沉淀的過程中我們還能通過我們的需要來改變靶材的沉淀情況。
　　在線光密度檢測(cè)儀能真空鍍膜生產(chǎn)的過程中進(jìn)行鍍膜厚均勻性的監(jiān)測(cè)；選擇真空鍍膜就是想要在基片上均勻的鍍上膜，靶材厚度的均勻性就決定了鍍膜的品質(zhì)，鍍膜生產(chǎn)過程中我們可以使用透光率光密度檢測(cè)儀來進(jìn)行在線測(cè)試，通過光譜里的紅外線透過率、紫外線透過率以及可見光穿透率來進(jìn)行監(jiān)控感應(yīng)鍍膜的均勻性。
　　那么具體影響基片上的靶材厚度是否均勻的因素有哪些呢？
　　首先對(duì)基片上的膜厚度就算是同一種物質(zhì)都會(huì)出現(xiàn)分子結(jié)構(gòu)不同的情況，而真空鍍膜簡(jiǎn)單說來就是在一種物質(zhì)覆蓋另一種物質(zhì)，如果這兩種物質(zhì)的分子結(jié)合能夠很好的鑲嵌在一起，那么對(duì)真空鍍膜情況肯定是有很大好處的，反之亦然。
　　然后基片表面的溫度也是會(huì)影響真空鍍膜厚度是否均勻的；基片的溫度越高則鍍膜效果越好，當(dāng)然在真空鍍膜的時(shí)候也會(huì)純?cè)谝恍┨厥獾牟牧希鼈兊腻兡で闆r則是基片溫度越低鍍膜效果會(huì)更好。
　　另外，真空鍍膜機(jī)的蒸發(fā)功率和速率也是影響真空鍍膜情況一個(gè)較大的因素，這個(gè)因素想要改變的話只能在真空鍍膜機(jī)上改善，因此想要通過加大真空鍍膜設(shè)備的蒸發(fā)功率來改變鍍膜情況是比較困難的。
　　zui后真空鍍膜的時(shí)間和所需鍍膜的厚度也是會(huì)影響到鍍膜是的均勻行的一個(gè)因素。所以zui有效的辦法還是通過目前專業(yè)技術(shù)的光學(xué)檢測(cè)儀器，通過在線光密度檢測(cè)儀的光接觸來連續(xù)測(cè)試鍍膜厚度的均勻性是否達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)。