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膜厚檢測(cè)儀
產(chǎn)品介紹
快速測(cè)量，僅需1-2s即可完成一次測(cè)量
大范圍膜厚測(cè)量，可測(cè)量膜厚范圍從15nm-70μm
常規(guī)操作只需點(diǎn)擊一個(gè)按鈕即可運(yùn)行，操作簡(jiǎn)便
適用于工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)，穩(wěn)定可靠
能夠滿(mǎn)足膜厚的常規(guī)測(cè)量，經(jīng)濟(jì)實(shí)用
產(chǎn)品參數(shù)
快速測(cè)量：最大典型12寸晶圓（即直徑300mm)
膜厚測(cè)量范圍：15nm-75μm (對(duì)Si上的SiO2樣品)
膜層數(shù)目：1-4層
膜厚測(cè)量重復(fù)性：0.1nm(對(duì)Si上100nm的SiO2樣品)
準(zhǔn)確度：2nm或0.4%（對(duì)Si上的SiO2樣品）
膜厚測(cè)試儀，分為手持式和臺(tái)式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀，電渦流鍍層測(cè)厚儀，熒光X射線(xiàn)儀鍍層測(cè)厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度。
臺(tái)式的熒光X射線(xiàn)膜厚測(cè)試儀，是通過(guò)一次X射線(xiàn)穿透金屬元素樣品時(shí)·產(chǎn)生低能量的光子，俗稱(chēng)為二次熒光，,在通過(guò)計(jì)算二次熒光的能量來(lái)計(jì)算厚度值。
