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產(chǎn)品簡介
在陶瓷和礦物質(zhì)上，膠體二氧化硅電化學(xué)地刺激表面，以在樣品表面上形成薄的反應(yīng)層。 然后可以通過布或磨料的機(jī)械作用去除該反應(yīng)層。 與直接機(jī)械磨料拋光相比，膠體硅膠的表面光潔度要好得多。 化學(xué)反應(yīng)是放熱的，因此通過提高溫度可以提高這一作用。 這可以通過增加拋光壓力來實(shí)現(xiàn)。 它可用于聚氨酯，短絨布和致密的低絲綢絲綢。
詳細(xì)介紹
氧化鋁粉用于大部分材料的拋光
微米 | 用途 | 規(guī)格 | 產(chǎn)品編碼 |
0-1 | 鋼鐵和硬金屬 | 1L | 600711 |
0-0.7 | 半硬金屬 | 1L | 600712 |
0-0.3 | 軟金屬 | 1L | 600713 |
Kemet膠體二氧化硅
在陶瓷和礦物質(zhì)上，膠體二氧化硅電化學(xué)地刺激表面，以在樣品表面上形成薄的反應(yīng)層。 然后可以通過布或磨料的機(jī)械作用去除該反應(yīng)層。 與直接機(jī)械磨料拋光相比，膠體硅膠的表面光潔度要好得多。 化學(xué)反應(yīng)是放熱的，因此通過提高溫度可以提高這一作用。 這可以通過增加拋光壓力來實(shí)現(xiàn)。 它可用于聚氨酯，短絨布和致密的低絲綢絲綢。 用去離子水稀釋1：1效果更好或更高。
在使用中，用蒸餾水潤濕拋光布，然后緩慢滴下或?qū)腋∫簢娫趻伖獠忌稀?zui后，在拋光完成約10秒鐘之前，連續(xù)加水，以去除被靜電吸引到樣品上的微細(xì)顆粒。
微米 | 用途 | 規(guī)格 | 產(chǎn)品編碼 |
0.06 | zui終拋光階段 | 1L | 600261 |
0.06 | zui終拋光階段 | 5L | 600199 |
0.06 | zui終拋光階段 | 20L | 600202
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