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更新時(shí)間：2024-12-02 10:17:45瀏覽次數(shù)：2317評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子 |
|---|---|---|---|
| 類型 | ?全自動(dòng)原子力顯微鏡 |
Bruker 全自動(dòng)原子力顯微鏡 InSight CAP
——緊湊型高性能剖面儀和AFM
Bruker的InSight CAP自動(dòng)原子力輪廓儀是專門為半導(dǎo)體制造商和供應(yīng)商設(shè)計(jì)的CMP和蝕刻計(jì)量組合平臺(tái)。靈活的配置支持從100毫米到300毫米的晶圓尺寸，可實(shí)現(xiàn)廣泛終端應(yīng)用的精確測量。從高生產(chǎn)率的實(shí)驗(yàn)室到全自動(dòng)化的工廠，InSight CAP profiler可以優(yōu)化配置，以獲得具成本效益的計(jì)量解決方案。
·< 0.5 nm長期動(dòng)態(tài)再現(xiàn)性
用于關(guān)鍵工藝決策的直接、穩(wěn)定的在線計(jì)量
·亞納米
CMP自動(dòng)計(jì)量的靈敏度，專用碟形和腐蝕計(jì)量包，用于過程控制和開發(fā)
·<20nm
仿形平面度大于26mm
針對(duì)關(guān)鍵EUV光刻技術(shù)開發(fā)和過程控制的高精度CMP后平面度計(jì)量
Bruker 全自動(dòng)原子力顯微鏡 InSight CAP
在線計(jì)量結(jié)果以分鐘為單位，適用于蝕刻和CMP的技術(shù)開發(fā)和過程控制
在節(jié)點(diǎn)，多模式光刻技術(shù)對(duì)CMP提出了納米級(jí)的過程控制要求，以滿足聚焦深度需求。InSight CAP圍繞新一代AFM掃描儀構(gòu)建，在65μm X/Y掃描范圍內(nèi)提供改進(jìn)的平坦度，小于10納米。該系統(tǒng)的NanoScope®V 64位AFM控制器提供了5倍更快的嚙合性能和5倍更快的調(diào)整速度，以提高生產(chǎn)效率，所有這些都提高了可靠性。其DT自適應(yīng)掃描模式也有助于加快掃描速度和改進(jìn)計(jì)量。InSight CAP高分辨率剖面儀結(jié)合了多項(xiàng)先進(jìn)功能，可在宏觀凹陷和侵蝕中實(shí)現(xiàn)埃級(jí)精度測量。
靈活的配置支持從100毫米到300毫米的晶圓尺寸，可實(shí)現(xiàn)廣泛終端應(yīng)用的精確測量。從高生產(chǎn)率的實(shí)驗(yàn)室到全自動(dòng)化的工廠，InSight CAP profiler可以優(yōu)化配置，以獲得具成本效益的計(jì)量解決方案。
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