詳細(xì)介紹
產(chǎn)品詳情
金相制樣中試樣磨拋工作的目的是去除變形層(深干擾層)露出真實(shí)樣品并達(dá)到光滑平整的觀測表面。 去除變形層后獲得平整光滑無劃痕的樣品表面叫做樣品拋光,通常使用拋光布盤+拋光液/膏/粉來實(shí)現(xiàn)。 |
拋光過程可以分為初拋和終拋兩個過程, 初拋會使用淺層強(qiáng)支撐織物來去除去薄或者預(yù)拋過程中產(chǎn)生的較深劃痕,獲取平整的樣品表面, 終拋會使用深層軟支撐來去除剩下的較淺的細(xì)微劃痕,達(dá)成完美光滑觀測面。 | |
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預(yù)拋時底部由硬質(zhì)磨盤支撐,金剛石懸浮液只能磨薄表面接觸損傷層并且會產(chǎn)生新的變形層(深干擾層) | 預(yù)拋時底部由軟質(zhì)織物支撐,金剛石懸浮液在消除表面接觸損傷層和變形層時不會產(chǎn)生新的變形層(深干擾層) |
1.拋光布一旦和磨料配伍是很難清洗干凈的,如需更換磨料只能向上匹配,如用過3um可使用6um的磨料,但不能在使用1um的磨料.
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