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分享！化學機械拋光機的主要特色和技術指標
化學機械拋光機是一種用于電子與通信技術、航空、航天科學技術領域的工藝試驗儀器。它可提供多種拋光工藝來優(yōu)化產品開發(fā)。包括廣泛的速度范圍、閉環(huán)加載力控制、多功能晶圓夾具和自動漿料輸送系統(tǒng)。化學機械拋光機在拋光過程中可以監(jiān)測多個在線信號。除了拋光晶片和基板外，該拋光機還配有在線三維形貌儀。這種組合提供了有關表面、摩擦和磨損如何變化的信息。
化學機械拋光機一般采用空氣干燥，不要用機器烘干。吸油性：其切削力弱于羊毛切削力，不會留下旋紋，能有效去除中度的漆面缺陷。拋光盤底面具有自動粘貼功能，可以快速轉換拋光輪。適用于車內普通漆、透明漆的磨光、拋光，一般用于毛料拋盤后拋光、打蠟。使用方法：溫水洗凈，擠去水份，置于潔凈處晾干。請勿使用肥皂或清潔劑清洗，不可干洗或機洗，不要用梳毛刷或螺絲刀清洗海綿輪。兔毛拋盤：兔毛拋盤位于毛線拋盤與海綿拋盤之間，底部有自動粘貼，可用來清潔車身。
產品主要特色：
1、CMP拋光頭：采用氣囊加載模式，3區(qū)壓力分區(qū)控制，可得到良好的工業(yè)級拋光效果；
2、自動上下片，自動拋光，干進干出；
3、拋光墊修整器：擺臂式設計，拋光墊分10區(qū)修整控制，可調整修整器下壓力及每個區(qū)域的修整時間，可保證拋光墊高水平修整；
4、拋光墊修整器：具有在線修整與離線修整兩種模式；
5、工藝數(shù)據(jù)可實時監(jiān)測；
6、可存儲多個Recipe；
7、帶全自動手臂及自動雙面清洗設備模塊。
化學機械拋光機的技術指標：
1、采用去離子水粘貼硅片或采用真空吸附硅片進行拋光，摒棄傳統(tǒng)的涂蠟粘貼硅片的方式，有利于拋光后硅片的清洗；
2、具備背壓功能，能夠顯著提升拋光的均勻性；
3、具備拋光終點檢測系統(tǒng)，防止過拋。