色欲色香天天天综合VVV,人人干人人黄在线观看,天天日天天操天天干夜夜爽

磁控濺射系統(tǒng)
NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)到到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)1...

型號(hào)： NSC-4000（... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 15:15:51 對(duì)比

Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射臺(tái)進(jìn)口真空鍍膜儀
NLD-4000（ICPA）全自動(dòng)PEALD系統(tǒng)
NLD-4000（ICPA）全自動(dòng)PEALD系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿(mǎn)足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:52:04 對(duì)比

ALDPEALD進(jìn)口全自動(dòng)PEALD等離子增強(qiáng)原子層沉積原子層沉積
NRE-4000（ICPA）全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)
NRE-4000（ICPA）全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)：自動(dòng)上下載片，帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實(shí)...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:51:14 對(duì)比

全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)全自動(dòng)ICP刻蝕機(jī)進(jìn)口全自動(dòng)ICP刻蝕機(jī)
NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)：PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:50:28 對(duì)比

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)價(jià)格RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)進(jìn)口反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
RIE刻蝕機(jī)
RIE刻蝕機(jī)：獨(dú)立式RIE系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2“的視窗,...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:48:51 對(duì)比

RIE刻蝕機(jī)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)刻蝕機(jī)
進(jìn)口晶圓清洗機(jī)
進(jìn)口晶圓清洗機(jī)：Nano-Master進(jìn)口兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、...

型號(hào)： SWC系列/LSC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:47:36 對(duì)比

進(jìn)口晶圓清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗設(shè)備進(jìn)口掩模版清洗機(jī)兆聲無(wú)損硅片清洗
SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)
SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:43:52 對(duì)比

進(jìn)口濕法刻蝕系統(tǒng)兆聲無(wú)損晶圓清洗機(jī)兆聲掩模版清洗機(jī)兆聲無(wú)損硅片清洗機(jī)
NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:36:42 對(duì)比

磁控濺射鍍膜系統(tǒng)進(jìn)口全自動(dòng)磁控濺射臺(tái)全自動(dòng)磁控濺射鍍膜儀全自動(dòng)磁控濺射鍍膜機(jī)
ICP等離子刻蝕機(jī)
NRE-4000（ICPM）ICP等離子刻蝕機(jī)：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪?shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻...

型號(hào)： NRE-4000（... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:35:29 對(duì)比

NRE-4000ICP刻蝕系統(tǒng)NRE-4000ICP刻蝕機(jī)進(jìn)口ICP等離子刻蝕機(jī)ICP刻蝕機(jī)
SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)
SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:32:03 對(duì)比

進(jìn)口濕法刻蝕系統(tǒng)全自動(dòng)濕法刻蝕系統(tǒng)全自動(dòng)晶圓清洗機(jī)全自動(dòng)掩膜板清洗機(jī)全自動(dòng)硅片清洗機(jī)
PTR-TOF-MS質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時(shí)間質(zhì)譜儀
PTR-TOF-MS質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時(shí)間質(zhì)譜儀是一種利用H3O+離子將質(zhì)子轉(zhuǎn)移到比水具有更高質(zhì)子親和力的所有化合物的軟電離方法?？諝庵械囊话愠煞植粫?huì)被氫離子束電...

型號(hào)： PTR 2e 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/7/23 15:06:43 對(duì)比

飛行時(shí)間質(zhì)譜儀質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時(shí)間質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)質(zhì)譜儀tof-ms氣體分析質(zhì)譜儀
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)：NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù)，在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級(jí)腔體中對(duì)同一樣...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:49:51 對(duì)比

光學(xué)鍍膜系統(tǒng)光學(xué)元件原子級(jí)鍍膜光學(xué)元件鍍膜機(jī)光學(xué)元件清洗鍍膜
進(jìn)口ALD設(shè)備
進(jìn)口ALD設(shè)備：ALD原子層沉積可以滿(mǎn)足膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響，所以在...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:45:12 對(duì)比

ALD進(jìn)口ALD全自動(dòng)原子層沉積進(jìn)口全自動(dòng)ALD
等離子去膠機(jī)
等離子去膠機(jī)：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:42:54 對(duì)比

等離子去膠機(jī)等離子去膠系統(tǒng)進(jìn)口等離子去膠機(jī)
硅片清洗機(jī)
硅片清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗...

型號(hào)： SWC系列/LSC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:38:34 對(duì)比

硅片清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗設(shè)備兆聲無(wú)損硅片清洗單片晶圓清洗機(jī)
等離子體增強(qiáng)MOCVD
等離子體增強(qiáng)MOCVD：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置（各帶獨(dú)立的...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:33:53 對(duì)比

等離子體增強(qiáng)MOCVDPA-MOCVDPAMOCVD等離子體增強(qiáng)MOCVD
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置（各帶獨(dú)立的冷卻槽）...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:31:57 對(duì)比

MOCVD設(shè)備金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉等離子體輔助MOCVDMOVPE設(shè)備PA-MOCVD報(bào)價(jià)
SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)
SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:29:53 對(duì)比

兆聲無(wú)損清洗機(jī)進(jìn)口掩模板清洗機(jī)單片晶圓清洗機(jī)兆聲無(wú)損硅片清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗設(shè)備
Plasma Source等離子體源
NANO-MASTER （那諾-馬斯特）可根據(jù)客戶(hù)需求，提供合適的Plasma Source等離子體源，可以是空心陰極等離子源，也可以是感應(yīng)耦合等離子源。等離子...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:27:49 對(duì)比

等離子體源ICP等離子源考夫曼離子源霍爾離子源RF射頻離子源
Platens樣品臺(tái)
NANO-MASTER（那諾-馬斯特）Platens樣品臺(tái)，又稱(chēng)為基板或加熱板，是真空鍍膜設(shè)備中常用到關(guān)鍵部件。因此樣品臺(tái)可以整合到RIE刻蝕、ICP刻蝕、PE...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:25:58 對(duì)比

樣品臺(tái)加熱臺(tái)高溫樣品臺(tái)低溫樣品臺(tái)

精品国产亚洲国产亚洲,久热中文在线观看精品视频,成人三级av黄色按摩,亚洲AV无码乱码国产麻豆

會(huì)員登錄

收藏該商鋪

提示