DOE掩膜，可消除不需要的高衍射級次光學

DOE掩膜，衍射光學元件掩膜

DOE掩膜，主要用于精密的控制大功率激光的孔徑，它的結(jié)構(gòu)是在玻璃基板上鍍有一層很薄（~1μm）的圖案反射涂層。

DOE掩膜的典型參數(shù)

衍射高級次消去膜通常分為兩種不同類型的掩膜

一種是電介質(zhì)反射掩膜

電介質(zhì)反射掩模，英文名為Dielectric Reflective Mask，是在熔融石英的基底上，鍍一層由非常薄（?1um）的反射涂層圖案。涂層部分反射入射光束，而未涂層部分透射光束。

電介質(zhì)反射掩膜的特性：

針對單波長設(shè)計，高損傷閾值，低吸收率

反射部分，> 99％的高反射率

透明部分，> 95％的高透射率

很薄的掩膜層(~1um)

另一種是透射成像掩模

透射成像掩膜，英文名為Transmissive Imaging Mask，透射式掩模的特點是透射全部入射光，沒有任何阻擋，透射掩模使用衍射圖案以大角度漫射不需要的波段。

它的工作原理如下：

       中心有一個和反射式掩膜類似的透明區(qū)域，光線直接透過，周圍區(qū)域具有衍射圖案，使不需要的入射光以大角度出射。配合聚焦鏡后焦平面放置的小孔，就可以阻擋大部分漫射光，從而達到阻擋多余激光的效果。

透射掩膜的特點：

不會有反射光的風險，導(dǎo)致?lián)p壞光學系統(tǒng)

~100％傳輸效率

比反射式掩模更高的激光損傷閾值

價格實惠

DOE掩膜的應(yīng)用領(lǐng)域：

縮減傳輸區(qū)域，設(shè)置一個很小的傳輸區(qū)域

控制激光衍射圖案的大小

DOE掩膜的型號規(guī)格：

DOE掩膜，衍射光學元件掩膜