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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
達因特 等離子表面處理設(shè)備進行各種材料表面處理,處理速度和處理寬度 是多少,等離子表面處理設(shè)備噴嘴的處理寬度為約30-12 毫米,較之于活化工藝,清洗速度可達每秒幾毫米.
在常壓等離子體技術(shù)中，氣體在常壓下借助高電壓被激發(fā)，并點燃等離子體。借助壓縮空氣從噴嘴中將等離子體噴出。共分為兩種等離子效應(yīng)：等離子表面處理設(shè)備是通過等離子射流中所含的活性粒子進行活化和精密清洗。此外，借助經(jīng)壓縮空氣加速的活性射流可以去除表面散落的、附著性顆粒。改變諸如處理速度和至基材表面的距離之類的工藝參數(shù)，會對處理結(jié)果造成不同程度的影響。
如何通過等離子表面處理設(shè)備進行清洗？
等離子體-表面技術(shù)的一項重要工藝便是等離子清洗。通過與電離氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以及經(jīng)壓縮空氣加速的活性氣體射流，將污物顆粒除去，轉(zhuǎn)換為氣相，并通過真空泵用連續(xù)氣體流將其排出。由此所獲得的純度等級較高。在發(fā)生氧化銅還原反應(yīng)時，氧化銅與氫氣的混合氣體-等離子體接觸，氧化物會發(fā)生化學(xué)還原反應(yīng)，并生成水蒸汽。該氣體混合物中含有 Ar/H2 或者 N2/H2，所含的 H2 zui大含量低于 5%。對于常壓等離子體而言，其發(fā)揮作用的時候具有*的氣體消耗量。
進行清洗的時候，等離子表面處理設(shè)備的槍頭是如何發(fā)揮作用的？
等離子表面處理設(shè)備進行處理能夠為我們帶來哪些主要優(yōu)勢？技術(shù)適用于在線工藝，例如，在對連續(xù)型型材、管件進行包護、膠粘，粘結(jié)或者涂層之前進行等離子清洗。該項技術(shù)適合用于機器人，也就是說，借助機器人可用等離子射流對 表面進行掃描。通過 等離子表面處理設(shè)備 可以進行局部的表面清洗，不會接觸其余表面部分，例如，在焊線（引線焊接）前對 Al, Au 和 Cu 材質(zhì)的焊盤進行清洗，無需接觸表面的其余部分。
等離子表面處理設(shè)備進行各種材料表面處理，金屬
有些處理產(chǎn)品被 脂肪、油、蠟和其他有機和無機污染物（包括氧化層）所覆蓋。對于某些應(yīng)用用途而言，表面必須清潔，并且不得存在任何氧化物，例如：
1 在 涂層之前
2 在 粘結(jié)之前
3 在打印之前
4 在 PVD- 和 CVD-噴涂之前
5 對于某些 特定醫(yī)療應(yīng)用時
6 對于 分析型傳感器
7 在 粘接之前
8 在 對印刷電路板進行錫焊焊接之前
此處，等離子體以 兩種 不同的方式發(fā)揮作用：
1.除去了有機層（含碳污染物）
材料會受到例如， 氧氣 和空氣的 化學(xué) 腐蝕,通過超壓吹掃，將其從表面去除。通過等離子體中的高能量粒子，臟污會轉(zhuǎn)化為穩(wěn)定的小型分子 ，并借此將其移除。臟污的厚度只允許達到 幾百納米 ，因為等離子的清除速度僅能夠達到每次幾 nm。脂肪含有諸如鋰化合物之類的成分。僅能夠除去其有機成分 。這一點同樣適用于指紋。故此，建議戴手套。
2.還原氧化物
金屬氧化物會和工藝氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。作為工藝氣體，使用了氫氣和氬氣或氮氣的混合物。等離子體射流的熱效應(yīng)可能會導(dǎo)致進一步的氧化。故此建議在惰性氣體環(huán)境下進行處理。
等離子表面處理設(shè)備進行各種材料表面處理：塑料
進行常壓等離子處理的時候，等離子清洗不得脫離于等離子活化。作為工藝氣體 ，通常使用干燥和不含油的壓縮空氣。該原理和金屬的等離子清洗是*的。
玻璃和陶瓷的等離子處理：
清洗玻璃和陶瓷的方法和清洗金屬是一樣的。作為清洗玻璃的工藝氣體 ，通常使用壓縮空氣。一般而言，大多用 壓縮空氣 進行 清洗 。作為重要參數(shù)，此處必須對距離、速度以及反復(fù)處理（是多次進行處理）加以考慮。
用等離子表面處理設(shè)備進行各種材料表面處理,處理速度和處理寬度 處理的寬度是多少？
一個噴嘴的處理寬度為約30-12 mm。當(dāng)然，每次使用時都要提前對清洗寬度進行檢測（例如，接觸角測量）。
等離子表面處理設(shè)備處理速度可達到多少？
較之于活化工藝，清洗速度可達每秒幾 cm。有效清洗需對表面進行升溫，只有借助較低的速度才能達到這一目的。
射流溫度有多高？
等離子射流平均溫度為約 200 – 250 °C。 如果距離和速度設(shè)定是正確的，則表面溫度可達到約 70 – 80 °C。故此，該項技術(shù)可以用于所有標(biāo)準(zhǔn)材料（金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體）。