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Ted Pella TEM支持膜

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  • 所在地 廣州市

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更新時(shí)間:2021-11-09 16:32:53瀏覽次數(shù):1148

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Ted Pella TEM支持膜一般能用肉眼分清正反面,比較有光澤的是正面,暗淡的是反面,大多數(shù)類型的支持膜都覆在正面。

詳細(xì)介紹

    Ted Pella TEM支持膜一般能用肉眼分清正反面,比較有光澤的是正面,暗淡的是反面,大多數(shù)類型的支持膜都覆在正面。
   
純方華膜:正面覆有一層方華膜,適用于低倍顯微鏡,中鏡說的是最高100kv下使用,適合看超薄切片樣品。貨號(hào)01700-F到01707-F   ,銅網(wǎng)目數(shù)200到400目和單孔環(huán),材質(zhì)有銅、金。
   
   
普通碳支持膜:方華膜上又覆了一層碳膜,應(yīng)用范圍比方華膜廣,用于常規(guī)檢測(cè)20-5Onm尺度樣品,不適用于需要高溫加熱的,其他都適合,特別適合細(xì)胞碎片懸浮液、薄截面觀察和復(fù)型膜觀察.貨號(hào)01802-F到01807-F,銅網(wǎng)目數(shù)200到400目和單孔環(huán),材質(zhì)有銅、金、鎳。描述中帶有TH的,表示用的銅網(wǎng)是加厚的。
   
   
B型碳膜:相比普通碳支持膜,B型碳膜覆的碳膜更厚,所以更適合在高倍數(shù)的200kv到300kv電鏡下工作,不適用于需要高溫加熱的,其他都特別適合。貨號(hào)01810到01816,銅網(wǎng)目數(shù)200到400目,材質(zhì)有銅、金、鎳、鉬。描述中帶有TH的,表示用的銅網(wǎng)是加厚的。
   
   
A型碳膜:正面覆了碳膜,反面覆了方華膜,可以用溶液去除掉反面的方華膜。正常的A型碳膜厚度是15至25nm,300目銅網(wǎng),貨號(hào)為01820和01821,去掉了方華膜的碳支持膜就相當(dāng)于純碳支持膜。還有碳膜厚度為3nm左右的A型超薄碳膜,400目銅網(wǎng),貨號(hào)01822,a型超薄碳膜在去掉方華膜后,可用于納米材料和生命科學(xué)低溫免疫電鏡的研究,特別適合于分散性好、粒徑小、襯度弱的納米材料樣品(納米晶、量子點(diǎn)等),也適合用于帶有機(jī)包覆層或無定型包覆層核殼結(jié)構(gòu)之類的納米材料,可得到高質(zhì)量的低倍形貌像以及較高質(zhì)量的高分辨像,同樣也適合于有機(jī)溶劑作為分散劑來處理的樣品.另外還有在微柵支持膜上覆超薄碳膜的超薄碳支持膜,相當(dāng)于它的正面有兩層碳膜,下面是微柵膜,上面的是3nm左右的超薄碳膜,貨號(hào)01824,400目銅網(wǎng),01824G,300目金網(wǎng),適合小顆粒樣品高分辨率觀察。
   
    Ted Pella TEM支持膜 ----
純碳支持膜:沒有方華膜,銅網(wǎng)正面只有一層15-25nm的碳膜。貨號(hào)從01840到01844,目數(shù)200目到400目,材質(zhì)銅、鎳、金、鉬、鋁合金、不銹鋼。純碳支持膜也適用于大部分的電鏡檢測(cè),可以高溫加熱,適合于有機(jī)溶劑作為分散劑來處理的樣品。
氧化硅膜:帶有方華膜的銅網(wǎng)上覆一層氧化硅膜,膜的韌性比碳支持膜強(qiáng),疏水性比較小,貨號(hào)01830兩百目銅網(wǎng),01832,三槽銅網(wǎng)。A型氧化硅膜,跟a型碳膜類似,正面是氧化硅膜,反面是方華膜。貨號(hào)01829,300目銅網(wǎng)。
   
   
微柵支持膜:微柵膜是膜的表面有大小不一的孔洞,孔的大小從四分之一微米到10微米不等,可以提高樣品的高襯度成像,一般用于高分辨率電子顯微鏡納米病毒細(xì)菌顆粒觀察。普通微柵膜,銅網(wǎng)正面有一層微柵方華膜和一層微柵碳膜,貨號(hào)01881到01885,目數(shù)200目到400目,材質(zhì)銅、金、鎳。A型微柵膜,正面一層微柵碳膜,反面一層微柵方華膜,可用溶劑去除方華膜,貨號(hào)01890,300目銅網(wǎng)。氧化硅微柵膜,銅網(wǎng)正面一層方華微柵膜和一層氧化硅微柵膜,貨號(hào)01887-F,300目銅網(wǎng)。純碳微柵膜,銅網(wǎng)正面只有一層微柵碳膜,貨號(hào)01894到01896,目數(shù)200目到400目,材質(zhì)銅、金、鎳。
   

    石墨烯支持膜:非常適合高分辨率成像,納米顆粒成像和弱對(duì)比材料/界面成像?;撞牧嫌?00目純碳微柵支持膜、2000目銅網(wǎng)+Synaptek   1 x   2mm單孔環(huán)、多孔氮化硅膜、單面拋光二氧化硅片,石墨烯膜有單層(厚度0.35nm),2層(厚度0.7nm),3-5層(厚度1.0-1.7nm)和6到8層(厚度2.1-2.8nm)。貨號(hào)21710-5到21626-25。氧化石墨烯支持膜:親水性強(qiáng),比石墨烯支持膜更適合生命科學(xué)應(yīng)用和研究,可用于聚合物、大分子和生物樣品的成像分析并且不需要重金屬染色。基底材料有300目純碳微柵支持膜、多孔氮化硅膜、單面拋光二氧化硅片,氧化石墨烯膜有單層(厚度0.8-1.2nm),2層(厚度1-1.5nm)。貨號(hào)21810-5到21642-25。


氮化硅支持膜:氮化硅支持膜是硅片上生長了一層氮化硅,氮化硅支持膜主要用于納米技術(shù)和分子生物研究,它的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)和機(jī)械性能穩(wěn)定耐腐蝕,可以承受高達(dá)1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對(duì)顆?;蚣?xì)胞進(jìn)行各種納米技術(shù)實(shí)驗(yàn)。應(yīng)用領(lǐng)域:FIB樣品支撐,細(xì)胞生物學(xué)(附著的細(xì)胞可以直接在支持膜上的環(huán)境中生長,然后進(jìn)行分析)、分析膠體,氣溶膠,納米顆粒、自組裝單層、高分子研究、薄膜研究(直接沉積在氮化硅支持膜上)、材料科學(xué)、半導(dǎo)體器件的納米結(jié)構(gòu)的性質(zhì)、半導(dǎo)體:薄膜表征、催化劑研發(fā)。膜厚度:彈性,超低應(yīng)力8、15、35或50nm,可產(chǎn)生最小吸收,從而實(shí)現(xiàn)清晰的成像;堅(jiān)固,低應(yīng)力的100nm和200nm,可在多個(gè)平臺(tái)上更好地處理和使用;窗口尺寸:   0.25 x 0.25mm,0.5 x 0.5mm,0.75 x 0.75mm,1.0 x 1.0mm,0.5 x 1.5mm以及具有3 x   3陣列的9個(gè)0.1 x 0.1mm窗口或2個(gè)0.1x   1.5毫米窗口的窗口版本。較大的窗口可提供更大的可視區(qū)域,例如,可以實(shí)現(xiàn)層析成像應(yīng)用所需的更大的傾斜角度。具有多個(gè)窗口的版本允許將多個(gè)樣本安裝在單獨(dú)的窗口上。表面粗糙度:   RMS(Rq)為0.65 +/- 0.06nm,平均粗糙度(Ra)為0.45 +/- 0.02nm。貨號(hào)21510-10到21579-10。


親水性氮化硅支持膜:親水性表面使水溶液在支持膜上的潤濕性和分散性得到改善,避免了使用親水性較差支持膜時(shí)常出現(xiàn)的顆粒團(tuán)聚現(xiàn)象,尤其適用于水溶液與生命科學(xué)研究。貨號(hào)21553-10到21551-10。


疏水性氮化硅支持膜:疏水表面改善了溶解或懸浮在有機(jī)溶劑中的材料的制樣效果。有機(jī)溶劑中的納米顆粒(例如碳納米管)易于分散在氮化硅膜表面。貨號(hào)21593-10到21591-10。


CLEM氮化硅支持膜:擁有兩個(gè)平行斷面的氮化硅支持膜,該框架有助于樣品對(duì)齊,方便做光電關(guān)聯(lián)顯微鏡實(shí)驗(yàn)。CLEM窗口的厚度為200µm,直徑為3mm,兩側(cè)有兩個(gè)1mm長的平行平邊緣。氮化硅膜有四種不同的厚度:15   nm,50 nm,100 nm和200 nm,孔徑范圍從0.1 x 0.1mm到1 x   1mm。貨號(hào)21560CL-10到21528CL-10和21518-10.


多孔氮化硅支持膜:用MEMS制造工藝制造的多孔氮化硅支持膜,該多孔氮化硅支持膜是在3mm的硅片上有一個(gè)0.5mm x   0.5mm的窗口,窗口上有一張的低應(yīng)力厚度為200nm的無定形氮化硅陣列孔支持膜。共有十二種孔徑可供選擇,范圍從100nm至5μm,陣列孔數(shù)90 x 90到1125 x   1125個(gè)。貨號(hào)21536-10到21585-10。


氮化硅X射線支持膜:尺寸分為10mm和5mm氮化硅片以及0.5mm,1mm或2mm單方形窗口。氮化硅膜厚度為50、100或200nm。貨號(hào)21901-10到21929-10。

   
   
二氧化硅支持膜:二氧化硅支持膜是硅片上生長了一層二氧化硅,3mm氮化硅片上0.5   x 0.5mm窗口上的二氧化硅膜,膜厚分為40nm,18nm和8nm,孔徑大小/數(shù)量:40 nm時(shí)50 x 50µm / 24孔,18nm時(shí)60 x   60µm / 24孔,8nm時(shí)70 x 70µm / 24孔。表面粗糙度:RMS(Rq)為0.65nm,平均粗糙度(Ra)為0.41   nm。應(yīng)用領(lǐng)域:納米材料的沉積和生長。薄膜分析和表征。催化劑的研發(fā)。支持FIB薄片。半導(dǎo)體材料的表征。研究附著的生物分子。貨號(hào)21530-10到21532-10.


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