全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字化技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術(shù)，采用真空光室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源、CMOS檢測(cè)器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低檢出線(xiàn)、長(zhǎng)期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。

  全譜直讀光譜儀 應(yīng)用領(lǐng)域：冶金、鑄造、機(jī)械、科研、商檢、汽車(chē)、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。

   檢測(cè)基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

   主要技術(shù)參數(shù)：

      波長(zhǎng)范圍：170nm~580nm

                   焦距：   400mm

             探測(cè)器：高性能CCD陣列

             光源類(lèi)型：數(shù)字光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）

             放電頻率：100-1000Hz

             放電電流：400A

             工作電源：220VAC 50/60Hz

             儀器尺寸：720*860*500

             儀器重量：約100kg（不含真空系統(tǒng)）

             檢測(cè)時(shí)間：依據(jù)樣品類(lèi)型而定，一般25S左右

             電極：鎢材噴射電

             光學(xué)恒溫：34℃± 0.3℃

             氬氣要求：99.999％

             氬氣進(jìn)口壓力：0.5MPa

             氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min

             工作溫度：10℃～35℃

             工作濕度：20％～85％

             分析間隙：真空軟件自動(dòng)控制、監(jiān)測(cè)

   技術(shù)特點(diǎn)：

1、高性能光學(xué)系統(tǒng)

《1》光學(xué)系統(tǒng)激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光學(xué)室，實(shí)現(xiàn)光路  直通，有效的降低光路損耗；

《2》高性能光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)及采用高精度的光學(xué)元件可精確測(cè)定非金屬元素中C、P、S、N以及各種元素含量；  

《3》測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)及長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

2、自動(dòng)光路校準(zhǔn)

《1》自動(dòng)光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線(xiàn)掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作；

《2》儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線(xiàn)與原存儲(chǔ)線(xiàn)進(jìn)行對(duì)比，確定漂移位置，找出分析線(xiàn)當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定。

3、單板式透鏡設(shè)計(jì)

《1》真空光學(xué)系統(tǒng)采用*的入射窗與真空隔離，可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進(jìn)行操作，光學(xué)透鏡采用單板式透鏡結(jié)構(gòu)，日常清洗維護(hù)方便快捷。

《2》在日常工作中儀器無(wú)需維護(hù)，也沒(méi)有消耗品及更換零部件。

4、真空室一體化

《1》*的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。

《2》真空室一體化設(shè)計(jì)及高精密的加工，使真空保持的更加持久。

5、真空防返油技術(shù)

《1》多級(jí)隔離的真空防返油技術(shù)，采用真空壓緊、擋板閥保證真空泵不工作時(shí)間真空光室與真空*隔離。

《2》中間增加了真空濾油裝置，確保真空泵中油不進(jìn)入真空室，保障CCD檢測(cè)器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。

6、開(kāi)放式激發(fā)臺(tái)

《1》開(kāi)放式激發(fā)臺(tái)機(jī)靈活的樣品夾設(shè)計(jì)，以滿(mǎn)足客戶(hù)現(xiàn)場(chǎng)的各種形狀大小的樣品分析。

《2》配合使用小樣品夾具，線(xiàn)材分析可達(dá)到1.5mm。

7、噴射電極技術(shù)：

《1》采用噴射電極技術(shù)，使用鎢材料電極，在激發(fā)狀態(tài)下，電極周?chē)鷷?huì)形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過(guò)程中激發(fā)點(diǎn)周?chē)粫?huì)與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度。

《2》配上*氬氣氣路設(shè)計(jì)，大大降低了氬氣使用量，也降低客戶(hù)使用成本。

8、集成氣路模塊

《1》激發(fā)臺(tái)采用散熱性能好的合金材料制作，不僅堅(jiān)固、耐用而且清潔方便。

《2》供氣系統(tǒng)采用集成氣路模塊，電極自吹掃功能，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。

9、全數(shù)字化激發(fā)光源：

《1》全數(shù)字激發(fā)光源，采用等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。

《2》全數(shù)字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩(wěn)定率輸出。

《3》滿(mǎn)足各種不同材料的激發(fā)要求。

10、高速數(shù)據(jù)采集：

《1》儀器采用高性能CCD器件，紫外鍍膜技術(shù)及高性能FPGA、ＤＳＰ及ＡＲＭ處理器。
《２》具有高速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀態(tài)。

11、以太數(shù)據(jù)傳輸：

《１》計(jì)算機(jī)和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議，避免電磁干擾，光纖老化的弊端，同時(shí)計(jì)算機(jī)和打印機(jī)*外置，方便升級(jí)和更換。

《2》完備的網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)。

《3》可以遠(yuǎn)程監(jiān)控儀器狀態(tài)，多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。

12、預(yù)制工作曲線(xiàn)：

《1》根據(jù)元素和材質(zhì)對(duì)應(yīng)的分析程序而稍有差異，激發(fā)和測(cè)試參數(shù)儀器出廠(chǎng)時(shí)已經(jīng)調(diào)節(jié)好，根據(jù)分析程序可自動(dòng)選擇測(cè)試條件。

《2》長(zhǎng)期以來(lái)工廠(chǎng)積累了大量的經(jīng)驗(yàn)以及全面的標(biāo)樣庫(kù)，儀器出廠(chǎng)時(shí)工廠(chǎng)預(yù)制工作曲線(xiàn)，使用戶(hù)拿到儀器后可投入使用。

《3》技術(shù)規(guī)格中附有分析范圍（并可根據(jù)用戶(hù)提供標(biāo)樣免費(fèi)繪制或延長(zhǎng)工作曲線(xiàn)）。

13、分析速度快捷：

《1》分析速度快捷，為客戶(hù)節(jié)約了寶貴的時(shí)間，20秒內(nèi)可測(cè)完所有通道的元素成分。

《2》針對(duì)不同的分析材料，通過(guò)設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及測(cè)量時(shí)間，使儀器短時(shí)間達(dá)到分析效果。

14、多基體分析

《1》光路設(shè)計(jì)采用羅欄園結(jié)構(gòu)，CCD上下交替排列，保證接收全部的譜線(xiàn)，不增加硬件設(shè)施，即可實(shí)現(xiàn)多基體分析。

《2》便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類(lèi)和分析元素。

《3》相比光電倍（PMT）光譜儀可大大減低使用成本及使用范圍。