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半導體材料HTR-01A快速退火爐

閱讀:181      發(fā)布時間:2023-08-07
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TR-01 桌式4英寸快速退火爐


HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術,可實現(xiàn)1-10片樣品同時進行,可實現(xiàn)4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫,同時搭配超高精度溫度控制系統(tǒng),可達到的溫場均勻性,對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。

主要應用領域:

快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);離子注入/接觸退火;

金屬合金;

熱氧化處理;

化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

太陽能電池片退火;高溫退火;

高溫擴散。

產(chǎn)品特點

快速加熱和降溫: 最高可控升溫速率可達50 /s,特定條件下可以達到100 /s。冷壁水冷設計能夠達到較大的降溫速率,特定條件下可達30 /s。

精確控溫: 采用工業(yè)級溫控器進行PID精確控溫,目標溫度與設定溫度曲線一致性高,可實現(xiàn)室溫至1200 ℃的溫度精確控制。

適應多種工藝環(huán)境: 滿足多種工藝氣氛下的熱處理(氮氣、氬氣等)。同時,通過選配真空泵,可以在真空條件下進行退火,最高真空度可達10-5Pa。

配備觀察窗口: 通過觀察窗口,可以實時觀察熱處理過程中的樣品變化。同時,可以結合相關測試方法進行原位測試分析。

超高安全系數(shù): 采用爐壁超溫報警系統(tǒng)和冷卻水流量報警系統(tǒng),保障儀器使用安全。

售后服務:,能快速反應客戶售后需求。



最大樣品尺寸

4英寸(直徑20mm

控溫范圍

RT~1200

升溫速率(max)

50/s

高溫段降溫速率(max

600/min

溫度均勻性

1%

控溫精度

±0.1

氣體流量

標配1路,可擴展至多路

放樣管徑

Ф210mm*320mm

放樣數(shù)量

       4-10

真空度

 真空度可以達到10-5

  控制方式

支持真空、氧化、還原、惰性氣體等工藝氣氛,也可設置通過軟件控制真空及通氣時間




提供商

北京精科智創(chuàng)科技發(fā)展有限公司

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