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Couloscope CMS2 STEP電位差測厚儀上海代理

作為測量鍍層厚度*簡單的方法之一，庫侖法可以用于各種鍍層組合。 尤其對于多鍍層結(jié)構(gòu)， 當允許破壞性測量時，它提供了一個比X射線更經(jīng)濟的替代方法。 應用 強大并且用戶友好的COULOSCOPE CMS2適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監(jiān)控和成品的質(zhì)量檢驗。
 
 很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用CMS2簡單快速地測量。這個方法為任何金屬鍍層提供了**的測量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm內(nèi)， 很多材料不需要預設定；基材組成和幾何形狀對于測量都是無關緊要的。
 
 *常見的應用之一就是測量線路板上剩余的純錫，以確?？珊感?。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu在鐵或者塑料（ABS）基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個方法進行測量。
 
 測量原理 這個系列儀器根據(jù)DIN EN ISO 2177標準的庫侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過在控制電流條件下電解腐蝕--------實際上就是電鍍的反過程。所載入的電流與要剝離的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面積保持不變，鍍層厚度與電解時間就是成正比的關系。
 
 測量槽------可比作微型電解缸------被用來剝離鍍層。 測量面積由裝在測量槽上的墊圈尺寸來決定。對不同的金屬采用不同配方的電解液。通過載入電流開始電解過程。 電解過程由COULSCOPE儀器的電子部分控制， 用一個泵攪拌電解液來使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電解液*佳利用。 根據(jù)測量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。
 
 STEP Test是在允許腐蝕的情況下用來同時測量電位差和多層鎳的鍍層厚度，該方法是這個應用領域的標準。 應用
 多層鎳鍍層的品質(zhì)控制需要能在電鍍完成后立刻檢查厚度和電位差的儀器。 COULOSCOPE CMS2 STEP 就是為這個目的而設計的，它操作簡單，參比電極使用起來也不復雜，非常適合電鍍工廠苛刻環(huán)境下的這種應用
 
 電鍍鎳層用作電解保護和提高機器表面屬性，如硬度等。 特別是汽車工業(yè)中，電鍍鎳部件在防腐蝕方面要滿足很高的要求。單一鎳層無法滿足該要求。因此，目前正在開發(fā)非常復雜的鍍層系統(tǒng)，其中包含兩層、三層甚至四層鍍鎳層，還有鉻或銅鍍層。
 
 測量原理 STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemi- cal Potential determination)（同時測量鍍層厚度和化學電位差）的簡寫，是已經(jīng)標準化很久的測量方法。它可以同時測量各鍍層厚度和多層鎳系統(tǒng)中兩層之間的電化學電位差。 厚度測量時用庫侖法來測量，電位差通過外面鍍一層AgCl的銀參比電極來測量。電壓曲線可以顯示在屏幕上，鍍層厚度和電位差可以在圖上讀出。 為了獲得可以比較的穩(wěn)定電位差測量結(jié)果，參比電極到工件的距離必須始終保持不變。這個問題通過特殊的測量槽得到解決。

典型應用：
電鍍緊固件
測試印刷電路板上殘留的純錫含量
鍍鉻浴室配件
測量常見的單相以及雙相涂層，如鐵上的ZN或銅上的SN / NI
金屬涂層的測量厚度品種為0.05 - 50m，不需要預先設置幾種材料; 基底組成以及幾何形狀也與測量過程無關
測量印刷電路板上純錫的剩余部分，以確?？珊感?br />多層涂層，如鐵/塑料（abs）基板上的CR / NI / CU

Couloscope CMS2 STEP電位差測厚儀上海代理

COULOSCOPE CMS基本配置：
儀器：            Couloscope CMS
測量臺：          V24、V26、V18 等
電解液：          F1 ～ F22
COULOSCOPE CMS特征：
標準：DIN EN ISO 2177 ； ASTM B504

模擬輸出： 0 ～ -18V
輸入阻抗： ＞ 2 KΩ
工作溫度： 10 ℃ ～ 40 ℃
儀器重量： 6 kg 
電源： AC 220 V ，50-60 Hz；zui大功耗 ≤ 85 VA
尺寸： 350W * 140H * 200D  mm