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作為測(cè)量鍍層厚度zui簡(jiǎn)單的方法之一，庫(kù)侖法可以用于各種鍍層組合。 尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu)， 當(dāng)允許破壞性測(cè)量時(shí)，它提供了一個(gè)比 X 射線更經(jīng)濟(jì)的替代方法。應(yīng)用：強(qiáng)大并且用戶友好的 COULOSCOPE CMS2 適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監(jiān)控和成品的質(zhì)量檢驗(yàn)。

COULOSCOPE CMS2 的應(yīng)
用實(shí)例：電鍍緊固件， 測(cè)量
PCB 板上的剩余純錫厚度，
鍍鉻件以及浴室用品
 

很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用 CMS2 簡(jiǎn)單快速地測(cè)量。 這個(gè)方法為任何金屬鍍層提供了的測(cè)量。 在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內(nèi)， 很多材料不需要預(yù)設(shè)定； 基材組成和幾何形狀對(duì)于測(cè)量都是無關(guān)緊要的。zui常見的應(yīng)用之一就是測(cè)量線路板上剩余的純錫，以確?？珊感?。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu 在鐵或者塑料（ABS）基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè)方法進(jìn)行測(cè)量。

                 
庫(kù)侖鍍層厚度測(cè)量法(DIN EN ISO 2177)      

 

測(cè)量原理
這個(gè)系列儀器根據(jù) DIN EN ISO 2177 標(biāo)準(zhǔn)的庫(kù)侖法。金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過在控制電流條件下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過程。所載入的電流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面 積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。

下面的公式適用于通過庫(kù)侖法電解腐蝕確定鍍層厚度：

測(cè)量槽------可比作微型電解缸------被用來剝離鍍層。 測(cè)量面積由裝在測(cè)量槽上的墊圈尺寸來決定。對(duì)不同的金屬采用不同配方的電解液。 通過載入電流開始電解過程。電解過程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制， 用一個(gè)泵攪拌電解液來使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電解液*利用。 根據(jù)測(cè)量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈可供選擇。

庫(kù)侖法圖解介紹：