Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器是一種用于高精度薄膜沉積的edge-cutting工具。它適用于研究和生產(chǎn)環(huán)境，這種緊湊的系統(tǒng)利用電子束直接加熱坩堝中的蒸發(fā)物，能夠以的控制力沉積金屬。與傳統(tǒng)的熱蒸發(fā)方法相比，Mini E-Beam Evaporator具有更高的效率，對基底的熱負荷更低，并且能夠同時共蒸發(fā)多種材料，使其成為各種涂層應(yīng)用中多功能且可靠的解決方案。

Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器是一種用于高精度薄膜沉積的edge-cutting工具。它適用于研究和生產(chǎn)環(huán)境，這種緊湊的系統(tǒng)利用電子束直接加熱坩堝中的蒸發(fā)物，能夠以的控制力沉積金屬。與傳統(tǒng)的熱蒸發(fā)方法相比，Mini E-Beam Evaporator具有更高的效率，對基底的熱負荷更低，并且能夠同時共蒸發(fā)多種材料，使其成為各種涂層應(yīng)用中多功能且可靠的解決方案。

Evap-4兼容超高真空（UHV），可以單獨提供，也可以與Nikalyte定制的任何PVD系統(tǒng)集成。

關(guān)鍵特性：

·         最多可共蒸發(fā)4種材料

·         緊湊的源設(shè)計

·         對基底的熱負荷低

·         集成4通道電源

·         用于速率監(jiān)測的通量測量

·         兼容超高真空

·         可烘烤至250°C

·         包括手動或氣動控制快門的選擇

·         可定制的真空內(nèi)長度

Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器規(guī)格：

·         安裝法蘭：NWCF63

·         真空內(nèi)長度：標準300毫米（可定制長度）

·         真空內(nèi)直徑：57毫米

·         坩堝體積：1000毫米3（1立方厘米）

·         坩堝材料：鉬（Mo）、鎢（W）、石墨（Gr）

·         坩堝襯里：氧化鋁（Al?O?）、氮化硼（PBN）

·         超高真空兼容性：是，可烘烤至250攝氏度

·         冷卻液流量：Min.1.0升/分鐘

·         功率：單相100-240伏交流電，50/60赫茲

·         快門：內(nèi)置手動或可選氣動操作