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詳細介紹
Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見工藝金屬（如金、銀和鉻）時提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對基底和周圍環(huán)境的熱負荷極小。
這種技術(shù)利用電子束直接蒸發(fā)棒狀材料，或者通過加熱偏置坩堝間接蒸發(fā)材料。當從坩堝蒸發(fā)時，部分準直的電子束在材料利用率方面比傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)器或熱舟源更具優(yōu)勢，尤其是在處理昂貴材料時。
主動冷卻的銅頭設計使得在運行過程中幾乎不產(chǎn)生放氣，而封閉的蒸發(fā)槽可以吸收大部分輻射熱，從而進一步降低對基底的熱負荷。Evap-4非常適合在溫度敏感的基底上沉積精確的薄膜涂層。Evap-4配備了通量板，用于測量源材料發(fā)出的離子通量，并提供沉積速率的獨立測量。
Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器可在一個單元內(nèi)控制多達4個蒸發(fā)槽，并提供兩種控制模式：
- 燈絲電流控制：用戶直接調(diào)節(jié)燈絲電流。
- 功率控制：用戶設置功率設定點，電源會自動調(diào)節(jié)燈絲電流以達到所需的功率。
規(guī)格參數(shù)
- 安裝法蘭：NWCF63
- 真空內(nèi)長度：標準300毫米（可定制長度）
- 真空內(nèi)直徑：57毫米
- 坩堝體積：1000毫米3（1立方厘米）
- 坩堝材料：鉬（Mo）、鎢（W）、石墨（Gr）
- 坩堝襯里：氧化鋁（Al?O?）、氮化硼（PBN）
- 超高真空（UHV）兼容性：是，可烘烤至250°C
- 冷卻液流量：Min1.0升/分鐘
- 快門：手動或可選氣動執(zhí)行器
- 功率：單相100-240伏交流電，50/60赫茲
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