詳細(xì)介紹
NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀為LCD、IC Package、Substrate、Build-up PCB、MEMS,Engineering Surfaces等領(lǐng)域提供納米級(jí)別精度的測(cè)量.
包括:非接觸3D形貌測(cè)量,更廣的測(cè)量范圍(5mm可選),自動(dòng)聚焦功能(可選),拼接和線路縱斷面等功能。
NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀技術(shù)參數(shù)
干涉物鏡:5物鏡可選(程控)
掃描范圍:0-180um(270um,5mm可選)
垂直分辨率:WSI:﹤0.5nm ,PSI :﹤0.1nm
橫向分辨率:0.2-4um(取決于物鏡和FOV)
傾斜度:±6°
工作平臺(tái):NV-P2020 200X200mm(程控)
NV-P4050 400X500mm(程控)