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NL-QMS磁控濺射納米顆粒尺寸控制系統(tǒng)能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測(cè)納米顆粒的尺寸分布，通過(guò)質(zhì)量過(guò)濾器按質(zhì)量或直徑實(shí)時(shí)掃描或過(guò)濾沉積的納米顆粒，從而促進(jìn)生長(zhǎng)條件的優(yōu)化。
詳細(xì)介紹
NL-QMS磁控濺射納米顆粒尺寸控制系統(tǒng)
四極桿質(zhì)譜儀（Quadrupole Mass Spectrometer, QMS）在磁控濺射納米顆粒尺寸控制中的應(yīng)用主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：
1. 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)與反饋：
o QMS能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測(cè)納米顆粒的尺寸分布，通過(guò)質(zhì)量過(guò)濾器按質(zhì)量或直徑實(shí)時(shí)掃描或過(guò)濾沉積的納米顆粒，從而促進(jìn)生長(zhǎng)條件的優(yōu)化。
o 通過(guò)調(diào)整工藝參數(shù)，如磁控濺射電流、結(jié)露區(qū)長(zhǎng)度和氣體流量等，可以精確控制納米顆粒的尺寸。
2. 精確控制納米顆粒尺寸：
o 在1-20 nm范圍內(nèi)調(diào)整納米顆粒的尺寸分布，這對(duì)于許多應(yīng)用領(lǐng)域（如生物醫(yī)學(xué)、電子材料等）至關(guān)重要。
o 例如，在銀納米團(tuán)簇的制備中，通過(guò)調(diào)節(jié)濺射電流和氬氣流量，可以獲得平均粒徑為2, 4和6 nm的銀納米團(tuán)簇。
3. 工藝參數(shù)的優(yōu)化：
o QMS可以與透射電子顯微鏡（TEM）等其他表征手段結(jié)合，對(duì)比在線和離線測(cè)量結(jié)果，確保納米顆粒尺寸控制的準(zhǔn)確性和一致性。
o 通過(guò)QMS的監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)，可以優(yōu)化工藝參數(shù)，如濺射電流、氣體流量和結(jié)露區(qū)長(zhǎng)度，以實(shí)現(xiàn)對(duì)納米顆粒尺寸的精確控制。
4. 應(yīng)用實(shí)例：
o 在等離子體氣相凝聚技術(shù)中，QMS被用于在線測(cè)量銀納米團(tuán)簇的粒徑尺寸與分布，并與TEM離線測(cè)量值進(jìn)行比對(duì)，驗(yàn)證了QMS在納米顆粒尺寸控制中的有效性。
通過(guò)上述方法，NL-QMS能夠有效地控制納米顆粒的尺寸，滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域?qū){米顆粒尺寸的精確要求。
NL-QMS磁控濺射納米顆粒尺寸控制系統(tǒng)技術(shù)規(guī)格
項(xiàng)目/源選項(xiàng) | NL-D1 | NL-D2 | NL-D3 |
源輸出 | 75W直流 | 100W直流 | 3×75W直流 |
濺射靶 | 1×1英寸 | 1×2英寸 | 3×1英寸 |
靶厚度 (mm) | 0.5-3 | 0.5-3 | 0.5-3 |