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巖征儀器電化學腐蝕反應釜又稱光化學高壓反應、二氧化碳CO2還原、二氧化碳CO2還原制甲醇CH3OH、二氧化碳CO2還原制甲烷CH4、氮氧化物NOx的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域 ，能適合少量樣品的反應的高溫高壓光化學反應器是昂貴或低產(chǎn)量原材料樣品測試的理想的反應裝置。適用于制藥、化工、石油、材料、環(huán)境、冶金等精細化工領域。
具體如制藥光催化，光電催化，二氧化碳超臨界反應等工藝。
電化學腐蝕反應釜優(yōu)勢：
設計參數(shù)：
加熱功率 | 500~1500W (注 1) |
設計溫度 | 250℃ |
使用溫度 | 50~200℃ (用做電催化時高 80℃) |
控溫精度 | ±1℃ (無強放熱吸熱情況下) |
設計壓力 | 150bar |
爆破壓力 | 125bar |
使用壓力 | -1~100bar (注 2) |
標準材質(zhì) | 316L (注 3) |
攪拌功率 | 80W |
攪拌速度 | 150~1500r/min(注 4) |
操作系統(tǒng) | 7 寸電容觸摸系統(tǒng) |
注 1 | 不同容積加熱功率不同 |
注 2 | 使用負壓時應特殊說明，配裝負壓表 |
注 3 | 有哈氏合金，蒙乃爾合金，鋯材，因科鎳,鈦材等特殊材質(zhì)可訂制 |
注 4 | 磁耦攪拌 150~1000r/min,標配三葉推進式槳葉 |
