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珠海歐美克儀器有限公司

粒度分析儀器的使用過程中該注意什么?

時間:2019-7-26 閱讀:2629
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   粒度分析儀器技術(shù)就是一種既可以準確測定顆粒物濃度又可以測定粒度分布(粒度組成)的現(xiàn)代技術(shù)。該技術(shù)采用MIE氏散射原理,通過檢測顆粒物的散射譜分析粒度組成,他的突出優(yōu)點是不接觸測量,速度快,重復性好,可以動態(tài)測量。
 
  粒度分析儀器就是針對生產(chǎn)現(xiàn)場的實際需要,發(fā)展起來的一種實時粒度分析手段,它具有實時性,連續(xù)性,抗電磁、高溫、粉塵、震動、腐蝕性干擾能力,為控制系統(tǒng)提供準確的控制信號,真正實現(xiàn)生產(chǎn)自動化、監(jiān)測科學化。
 
  粒度分析儀器的使用過程中,對于使用者來說,如何選取儀器的遮光比對于提升儀器度是很有影響的,所謂的遮光比就是在使用納米激光粒度儀測試樣品時,配置的樣品懸浮液的濃度,遮光比的正確選擇是激光粒度儀在粒度測試過程中的重要的步驟,遮光比是否合適或者說被測樣品的濃度是否合適嚴重關(guān)系到粒度測量結(jié)果的準確性和代表性。
 
  粒度分析儀器的測量原理要求在測試過程中,樣品的濃度以樣品中顆粒之間相互不發(fā)生二次散射為原則,理論上就是要求懸浮液或者空氣中顆粒之間的距離為顆粒直徑的3倍,但是這個要求非常難以掌握,因此在實際的粒度測試中,通過調(diào)整遮光比的數(shù)值來盡量保證顆粒之間不發(fā)生二次散射。遮光比不宜過大(超過50%)或者過?。ǖ陀?%),遮光比過大時,顆粒的濃度過高,容易發(fā)生二次散射,測量結(jié)果誤差增大;遮光比過低,樣品中顆粒的濃度太低,顆粒數(shù)太少,測試結(jié)果的代表性很差,甚至可能導致測試結(jié)果是無效的,因此在測試過程中,對遮光比的選取要通過反復試驗,以得到正確的測量結(jié)果。
 
  一般來說,對于比較粗的樣品,遮光比可以選擇的比較高,如20~30%,正常情況可以為10~25%;對于超細的樣品,粒度分析儀器可以適當降低樣品的遮光比,但一般不要超過40%,這些都是實驗得到的經(jīng)驗數(shù)值,但還需通過反復實驗,找到對應(yīng)樣品測試時遮光比的數(shù)值。

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