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 VibroMet™ 2振動(dòng)拋光機(jī)可快速去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層，從而得到無應(yīng)力的制備表面，而不必使用電解拋光制備所必需的危險(xiǎn)電解液。結(jié)合VibroMet 2與MasterMet 2二氧化硅拋光液對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光，可適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）。不同于傳統(tǒng)的振動(dòng)拋光機(jī)，VibroMet 2可以產(chǎn)生幾乎*水平方向的振動(dòng)，zui大限度地提高了樣品接觸拋光布的時(shí)間。用戶設(shè)定好程序后就可以離開，樣品會(huì)在拋光盤中自動(dòng)地開始振動(dòng)拋光。

VibroMet™ 2振動(dòng)拋光機(jī)快速去除樣品表面變形層

水平運(yùn)動(dòng)溫和地拋光樣品不引起機(jī)械應(yīng)力

所得樣品表面適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）

對(duì)混合材料和不均勻樣品都能達(dá)到*的制備效果

無需使用危險(xiǎn)電解液

替換電解拋光儀和危險(xiǎn)電解液

結(jié)合VibroMet 2 與MasterMet二氧化硅拋光液，MicroCloth 拋光布對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光

設(shè)定后無需過多留心

樣品在拋光盤中可自動(dòng)開始振動(dòng)拋光

12in [305 mm]直徑拋光盤可同時(shí)制備多達(dá)18個(gè)樣品

VibroMet™ 2 振動(dòng)拋光機(jī)

• 振動(dòng)拋光機(jī)用于在機(jī)械制備后去除剩余的輕微變形，以顯現(xiàn)無應(yīng)力的表面，而不必使用電解拋光所需的危險(xiǎn)的電解液

• 將VibroMet™ 2 振動(dòng)拋光機(jī) 和MasterMet™ 2 膠體二氧化硅配合使用，進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光的試樣表面可滿足電子背散射衍射（EBSD）或原子

力顯微鏡(AFM) 分析

• 和zui終拋光液配合使用(pg.69-70)

• 磨盤尺寸為12in [305mm]