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更新時(shí)間：2025-03-18 16:42:45
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高分辨率測(cè)試靶
 | 負(fù)片圖案設(shè)計(jì) 基底為10x10mm2，設(shè)計(jì)緊湊，尺寸穩(wěn)定性良好 采用高精度電子束光刻技術(shù)制作 結(jié)構(gòu)尺寸低至100nm 分辨率可達(dá)到3300 lp/mm |
昊量光電推出的 Test chart 標(biāo)準(zhǔn)尺系列是由高精度的電子束光刻制作而成，這些圖案蝕刻在具有廣譜透射(DUV-VIS-NIR)的，基底為一個(gè)10×10 mm2石英襯底上。在襯底上施加了高光密度的鉻層，之后通過(guò)燒蝕鉻層，使得結(jié)構(gòu)尺寸可以降低到100納米的同時(shí)保證了設(shè)計(jì)的精度，這種方式也保證了結(jié)構(gòu)邊緣的良好尺寸公差和直線度。其結(jié)構(gòu)為負(fù)片圖案，且每個(gè)靶上的負(fù)片圖案允許結(jié)構(gòu)透明，而背景被鉻層阻擋。同時(shí)為配各類(lèi)顯微鏡物鏡使用，有多種圖案可以選擇，且所有圖案都可以有一個(gè)厚度0.17毫米的覆蓋玻璃的版本可用。 |
高分辨率顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試片標(biāo)準(zhǔn)載玻片靶 TC-RT01——7.5-3300 lp/mm+4.0-0.25um Pinholes |
通過(guò)高分辨率的RT01，可以非常輕松、快速地在傳輸光下確定目標(biāo)的分辨率限制。水平和垂直對(duì)齊共有 59 條線型，涵蓋了精度從每毫米 7.5條線對(duì) 到 3300 條線對(duì)。 同時(shí)結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單排列和測(cè)試結(jié)構(gòu)尺寸的直接讀取確保了直觀的處理。此外，還有5個(gè)直徑在4.0-0.25 um之間的針孔，可以實(shí)現(xiàn)微成像光學(xué)元件的詳細(xì)表征 |  |
| 西門(mén)子星狀靶 TC-RT02 —— Resolution testchart with very high precision |
 | 該標(biāo)準(zhǔn)尺由 5 顆西門(mén)子星組成， 其特點(diǎn)是星中心的錐形部分制造的寬度低至為 150nm。該測(cè)試目標(biāo)板非常適合于確定具有非常高數(shù)值光圈的顯微鏡物鏡的分辨率 |
| 載玻片檢查板TC-CB50 —— CheckBoard of 50 x 50 um2 squares |
高分辨率顯微鏡檢查板的特點(diǎn)內(nèi)部每個(gè)正方形均為 50 x 50 平方微米，整體尺寸為 9.0 x 9.0 平方毫米。該靶片非常適合于測(cè)試圖像偏斜和曲率，以及確定由于直線和銳邊導(dǎo)致的圖像質(zhì)量。 |  |
| 載玻片針孔靶TC-ST01 —— Stepped rows of Pinholes from 0.18μm-4μm |
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該標(biāo)準(zhǔn)尺上提供了直徑0.18um到4um的針孔。相同階梯式針孔間具有足夠的暗區(qū)，使待測(cè)透鏡的整個(gè)視場(chǎng)變暗。該標(biāo)準(zhǔn)尺特別適用于顯微鏡透鏡的星形測(cè)試和光學(xué)顯影 |
| 高分辨率顯微鏡靶通用規(guī)格 |
Pattern Tolerance: | 100nm/cm |
光密度 OD: | OD>8 @ 400nm, 6 @ 550nm, 4.5 @ 750nm, 3.6 @ 1000nm |
光譜范圍: | 200 - 2000nm |
基底: | Fused Silica w/Chrome deposit |
尺寸 (mm): | 10 x 10 x 1 |
構(gòu)造 : | Stainless Steel, 75 x 25 x 1.5mm, microscope slide format |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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