全球-PHI GENESIS在近期已到達(dá)束蘊(yùn)儀器(上海)有限公司的倫琴實(shí)驗(yàn)室并完成安裝調(diào)試。倫琴實(shí)驗(yàn)室是國內(nèi)專業(yè)從事X射線相關(guān)分析與開發(fā)的機(jī)構(gòu),提供多方位的X射線測試服務(wù),以廠家應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室標(biāo)準(zhǔn)配置了新型設(shè)備。針對復(fù)雜材料和器件完成從晶體結(jié)構(gòu)到電子結(jié)構(gòu)的完善解析,以及從埃米到毫米的跨尺度表征。束蘊(yùn)儀器的測試團(tuán)隊(duì)由應(yīng)用專家領(lǐng)導(dǎo),同時與Bruker,ULVAC-PHI等儀器制造商為深度合作伙伴。
ULVAC-PHI于2022年7月推出了具備有多功能平臺的X射線光電子能譜儀(XPS)- PHI GENESIS。該儀器集成了PHI歷代XPS儀器重要的“GENE"所研發(fā)出的新型產(chǎn)品,具有50年技術(shù)傳承的高度自動化和減少分析時間的傳統(tǒng),具有可擴(kuò)展性,并在緊湊型外殼中提供壓倒性的性能。
PHI GENESIS可以應(yīng)對從大面積到微區(qū)的分析需求,既可以表征表面成分,表面多層薄膜等,又可以對環(huán)境顆粒物、表面缺陷進(jìn)行微區(qū)定位分析。這使得PHI GENESIS對于各種材料開發(fā),材料剖析與失效機(jī)理的分析和研究具有不可替代的作用。
PHI GENESIS的功能十分強(qiáng)大,包括雙束中和且條件自動匹配、提供表面的元素成分、元素化學(xué)態(tài)信息、全譜圖掃描定性分析各種樣品表面元素組成 (Li~U)、窄譜(精細(xì)譜)掃描表征各種元素存在的化學(xué)態(tài)、半定量給出各個成分及化學(xué)態(tài)的百分比、線或面分析 (Line Scan & Mapping) 表征成分的水平分布、深度分析(Depth Profiling)表征成分的深度分布。
此外,PHI GENESIS由ULVAC-PHI公司獨(dú)力研發(fā),該公司是超高真空表面分析儀器供應(yīng)商。作為提供多方位(面)的高性能XPS、AES和SIMS表面分析儀器的一家供應(yīng)商,向普遍高科技領(lǐng)域上的廣大客戶(包括納米技術(shù)、微電子技術(shù)、存儲介質(zhì)、催化、生物材料、藥品、基本材料如金屬、礦物、聚合物、復(fù)合材料和涂料)提供完整的表面分析解決方案上,ULVAC-PHI多年來在表面分析領(lǐng)域中具有極其應(yīng)有的地位。
PHI CHINA總經(jīng)理葉上遠(yuǎn)先生對于PHI GENESIS在束蘊(yùn)儀器(上海)有限公司的倫琴實(shí)驗(yàn)室順利完成安裝調(diào)試表示祝賀。也表示ULVAC-PHI和PHI CHINA將對該設(shè)備(PHI GENESIS 500)提供持續(xù)性技術(shù)支持,希望雙方未來繼續(xù)深度合作,呈現(xiàn)華東地區(qū)一個新的面向全國用戶的展示窗口。
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