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激光粒度儀降本增效的新希望,線陣CCD探測(cè)器替代傳統(tǒng)探測(cè)器

閱讀:774        發(fā)布時(shí)間:2019-11-15

傳統(tǒng)激光粒度儀采用環(huán)形光電二極管陣列作為探測(cè)器,但一般探測(cè)器只有 32 環(huán),較低的空間分辨率限制了其在顆粒測(cè)量中的應(yīng)用。并且由于應(yīng)用量少,導(dǎo)致其成本非常高。

 

CCD興起于20世紀(jì)70年代,是由一組規(guī)則排列的金屬-氧化物-半導(dǎo)體( MOS)電容器陣列和輸入、輸出電路組成。它能夠利用時(shí)鐘脈沖電壓來產(chǎn)生和控制半導(dǎo)體勢(shì)阱的變化,完成對(duì)光的探測(cè)。不同于普通固態(tài)電子器件,CCD器件中信息的存在和表達(dá)方式為電荷,而不是電流或電壓,因此對(duì)信息的表達(dá)具有更高的靈敏度。按照感光單元的排列方式來劃分,CCD器件可以分為線陣CCD和面陣CCD。

 

線陣CCD探測(cè)器替代傳統(tǒng)探測(cè)器 激光粒度儀降本增效的新希望

 

近些年來,以面陣 CCD 為探測(cè)器的激光粒度儀得到了一定的發(fā)展,但在室溫條件下,面陣 CCD 容易受到暗電流的影響,動(dòng)態(tài)范圍一般只有 20——30dB,且面陣CCD 存在價(jià)格高,尺寸小,采集電路設(shè)計(jì)復(fù)雜等缺陷。相比于面陣 CCD 探測(cè)器,線陣 CCD 具有分辨率高,動(dòng)態(tài)響應(yīng)范圍寬等特點(diǎn),并且可以對(duì)像素點(diǎn)進(jìn)行直接操作,具有更大的靈活性,因此能夠滿足不同環(huán)境條件下的顆粒粒度測(cè)量要求。目前,在不同工業(yè)領(lǐng)域,線陣 CCD 已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用,如高性能文件打印、光譜掃描、光學(xué)字符識(shí)別等。由于應(yīng)用范圍廣,使得線陣 CCD 成本較低。所以采用線陣 CCD 探測(cè)器替代傳統(tǒng)探測(cè)器可以有效降低激光粒度儀的制造成本。

隨著工業(yè)生產(chǎn)實(shí)踐的不斷進(jìn)步,針對(duì)小粒徑顆粒、不規(guī)則形狀顆粒和特殊材料顆粒的研究越來越深入。基于線陣 CCD 探測(cè)器的激光粒度儀測(cè)量性能需要從顆粒的散射光學(xué)模型、儀器的光學(xué)結(jié)構(gòu)和采集數(shù)據(jù)的反演算法三個(gè)方面來進(jìn)一步提高。

 

不管是 Mie 氏光散射理論還是夫瑯禾費(fèi)衍射理論,其前提條件都是假設(shè)被測(cè)樣品為球形顆粒。而在實(shí)際社會(huì)生產(chǎn)過程中,顆粒的形狀往往是不規(guī)則的,采用傳統(tǒng)光散射理論描述顆粒的散射光強(qiáng)分布是不合適宜的,容易造成反演粒度分布偏離真實(shí)粒度分布。因此,建立更普適性的顆粒散射光學(xué)模型是提高激光粒度測(cè)量準(zhǔn)確性的關(guān)鍵。使用近似非負(fù)約束 Chin-Shifrin 算法是一種獲得準(zhǔn)確性更高的顆粒粒度分布的方法。

目前,激光粒度儀的光學(xué)結(jié)構(gòu)主要有前置式傅里葉透鏡光學(xué)結(jié)構(gòu)和后置式傅里葉透鏡光學(xué)結(jié)構(gòu)兩種,目前,依然采用前置式傅里葉透鏡光學(xué)結(jié)構(gòu)的激光粒度儀制造商有丹東百特、遼寧儀表研究所、成都精新以及國外的 Shimadzu、Sympatec 等公司。并且由于干法測(cè)量要求的特殊性,一般干法激光粒度儀也采用前置式傅里葉透鏡光學(xué)結(jié)構(gòu)。因此,本文主要對(duì)前置式傅里葉透鏡光學(xué)結(jié)構(gòu)進(jìn)行探討。線陣 CCD 具有 7450 個(gè)像素點(diǎn),單位像素點(diǎn)的尺寸為 4.7×4.7μm,采用精度為8bit,采樣數(shù)據(jù)率為 30MHz?;诰€陣 CCD 的前置式傅里葉光學(xué)結(jié)構(gòu)的激光粒度儀系統(tǒng)結(jié)構(gòu)如下圖所示。

北京恒瑞鑫達(dá)科技有限公司,成立于2009年8月,成立至今已經(jīng)和國內(nèi)多家教育機(jī)構(gòu),全國各地多家企業(yè)有過長期的合作關(guān)系,專注于新型材料試驗(yàn)機(jī)的研究,長期聘請(qǐng)清華大學(xué)精密儀器系的專家為技術(shù)顧問,并成立新型材料檢測(cè)儀器研發(fā)中心。
    北京恒瑞鑫達(dá)科技有限公司是集專業(yè)設(shè)計(jì)、開發(fā)、生產(chǎn)與銷售于一體的*股份制企業(yè),專注于新型材料試驗(yàn)機(jī)的研制、材料檢測(cè)技術(shù)的提高及材料試驗(yàn)方法的創(chuàng)新,是國內(nèi)的材料試驗(yàn)檢測(cè)儀器的生產(chǎn)企業(yè)。恒瑞鑫達(dá)以精美的產(chǎn)品、的技術(shù)、精良的品質(zhì)、精心的服務(wù)贏得了廣大用戶和*,產(chǎn)品全國,擁有一大批國內(nèi)外科研院所及企業(yè)用戶,是國內(nèi)試驗(yàn)機(jī)行業(yè)發(fā)展速度快的企業(yè)之一。

為了提高顆粒測(cè)量粒度范圍,擴(kuò)大線陣 CCD 的可測(cè)量散射角,建議采用漸變?yōu)V光片系統(tǒng)對(duì)中心艾里斑光強(qiáng)進(jìn)行濾光處理,獲取顆粒小角度散射光強(qiáng)信息,同時(shí)為了擴(kuò)大有效測(cè)量散射角,設(shè)計(jì)組合線陣 CCD 探測(cè)器,對(duì)大角度散射光進(jìn)行有效采集。另外,為了滿足不同社會(huì)生產(chǎn)需求,例如在線顆粒測(cè)量、超細(xì)顆粒粒度測(cè)量等。引入更的數(shù)據(jù)反演算法也迫在眉睫。

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