電化學(xué)工作站主要有2大類，單通道工作站和多通道工作站，區(qū)別在于多通道工作站可以同時(shí)進(jìn)行多個(gè)樣品測(cè)試，較單通道工作站有更高的測(cè)試效率，適合大規(guī)模研發(fā)測(cè)試需要，可以顯著的加快研發(fā)速度。
電化學(xué)工作站的交流阻抗的原理：
交流阻抗方法是用小幅度交流信號(hào)擾動(dòng)電解池，并觀察體系在穩(wěn)態(tài)時(shí)對(duì)擾動(dòng)的跟隨的情況，同時(shí)測(cè)量電極的交流阻抗，進(jìn)而計(jì)算電極的電化學(xué)參數(shù)。從原理上來(lái)說(shuō)，阻抗測(cè)量可應(yīng)用與任何物理材料，任何體系，只要該體系具有雙電極，并在該雙電極上對(duì)交流電壓具有瞬時(shí)的交流電流相應(yīng)特性即可。
交流阻抗譜(EIS)在金屬表面鈍化方面的應(yīng)用：要確定某鈍化工藝中Fe2+濃度對(duì)鈍化效果的影響，可以在不同的Fe2+濃度下測(cè)試出交流阻抗曲線，從中篩選出合適的工況。表明濃度1比濃度2、濃度3的成膜工藝要好，因此可以選擇濃度1作為該參數(shù)的條件。
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