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產(chǎn)地類別	國(guó)產(chǎn)	額定頻率范圍	1-600Hz
價(jià)格區(qū)間	1萬-5萬	臺(tái)面尺寸	500×500LWH
儀器類型	模擬汽車運(yùn)輸試驗(yàn)臺(tái)	最大加速度	20g
最大試驗(yàn)負(fù)載	100kg

LD-ATP吸合電磁式振動(dòng)試驗(yàn)機(jī)四度空間一體機(jī)

產(chǎn)品用途：振動(dòng)試驗(yàn)機(jī)是檢測(cè)產(chǎn)品在運(yùn)送、使用、保存、中會(huì)產(chǎn)生碰撞、振動(dòng),使產(chǎn)品在某一段時(shí)間產(chǎn)生不良，嚴(yán)重影響產(chǎn)品的使用和不必要的經(jīng)濟(jì)損失，為了避免這事態(tài)的發(fā)生我們就要提早知道產(chǎn)品或產(chǎn)品中的部件的耐振壽命。

振動(dòng)試驗(yàn)機(jī)的作用:
1.結(jié)構(gòu)的強(qiáng)度2.結(jié)合物的松脫3.保護(hù)材料的磨損4.零部件的破損5.電子組件的接觸不良6.電路短路及斷續(xù)不穩(wěn)7.各零件之標(biāo)準(zhǔn)值偏移8.提早將不良件篩檢9.找尋零件、結(jié)構(gòu)、包裝與運(yùn)送過程間之共振關(guān)系。

LD-ATP吸合電磁式振動(dòng)試驗(yàn)機(jī)四度空間一體機(jī)

一、產(chǎn)品型號(hào)及參數(shù)

產(chǎn)品名稱型號(hào)	吸合電磁式振動(dòng)試驗(yàn)機(jī)(四度空間一體機(jī))
	LD-ATL	LD-ATP	LD-ATW	LD-ATT
振動(dòng)方向	全自動(dòng)四度空間一體機(jī)(上下左右)(同一個(gè)臺(tái)面工作）
功能	可任二軸同時(shí)動(dòng)作,可二軸連續(xù)動(dòng)作,隨機(jī)動(dòng)作(可設(shè)頻寬)
振動(dòng)頻率	電源頻率(50HZ)	1～600HZ	1～3000HZ	1～5000HZ
精密度	頻率可顯示到0.01Hz，精密度0.1Hz
振幅	0～5.2㎜（微調(diào)）
zui大加速度	22g zui大加速度=0.002×頻率2×振幅
加速度與振幅換算	加速度=0.002×F²×D（F：頻率、D：振幅、1g=9.8m/s²）
zui大激振力	2200kgf范圍內(nèi)
振動(dòng)波形	正弦波(半波/全波)
調(diào)頻功能	無	任意范圍調(diào)節(jié)（數(shù)顯儀表顯示）
掃頻功能		（上限頻率/下限頻率/時(shí)間范圍）可任意設(shè)定真正標(biāo)準(zhǔn)來回掃頻
可程式功能		15段每段可任意設(shè)定（頻率/時(shí)間）可循環(huán)
倍頻功能		15段成倍數(shù)增加,①.低頻到高頻 ②.高頻到低頻 ③.低頻到高頻再到低頻/可循環(huán)
對(duì)數(shù)功能		①．下頻到上頻 ②．上頻到下頻 ③．下頻到上頻再到下頻—3種模式對(duì)數(shù)/可循環(huán)
時(shí)間控制	0小時(shí)-7天內(nèi)	1秒到135年可任意設(shè)置（秒為單位）
zui大試驗(yàn)負(fù)載	100KG
振動(dòng)機(jī)功率	2.2KW			3.3KW
電源電壓	220V±20% 50HZ			380V±20% 50HZ
噪音	60分貝以內(nèi)（3米外）
電磁場(chǎng)輻射	50毫高斯內(nèi)：1m外
震動(dòng)力	震動(dòng)小于1級(jí)內(nèi)：任何樓層皆可使用
臺(tái)面尺寸mm（可選）	350×350 500×500 750×750 1000×1000 1500×1500
外購(gòu)件	測(cè)量?jī)x：如需看出振幅、加速度、zui大加速度、準(zhǔn)確數(shù)字需另購(gòu) 測(cè)量?jī)x；電腦軟件：如要連接電腦做控制、儲(chǔ)存、記錄、打印之功能需另購(gòu)買介面卡程式電腦

使用振動(dòng)試驗(yàn)機(jī)的優(yōu)點(diǎn):
a. 設(shè)計(jì)時(shí)，可分析破壞點(diǎn)、易不良點(diǎn)；
b. 質(zhì)量時(shí)，可分析每一批產(chǎn)品所產(chǎn)生的不同點(diǎn)和不良點(diǎn)；
c. 生產(chǎn)時(shí)，可*一邊振動(dòng)一邊測(cè)量，使產(chǎn)品不良率早發(fā)現(xiàn)；
d. 耐久測(cè)量，讓產(chǎn)品耐久使用、使不耐久的組件提早改進(jìn)，公司品牌口碑即會(huì)更好；