●最大300W的大功率上照射X射線源，無(wú)陰影的XPS分析
●錐形塊體式陽(yáng)極靶，抗污染能力強(qiáng)
●最佳能量分辨率優(yōu)于 0.8eV（Mo 3d_5/2）
●常規(guī)分析能量分辨和靈敏度高達(dá)1.15eV@700kcps（Ag 3d_5/2）
●結(jié)合了數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理的Vision軟件，可運(yùn)行于Windows XP/Vista/7等多種平臺(tái)下，實(shí)現(xiàn)各真空室真空度實(shí)時(shí)顯示，操控真空閥門(mén)開(kāi)關(guān)，實(shí)驗(yàn)條件設(shè)定和全自動(dòng)無(wú)人值守分析等強(qiáng)大功能

XPS：固體樣品的表面組成分析，化學(xué)狀態(tài)分析，取樣訊息深度為～10nm以內(nèi). 功能包括:
1. 表面定性與定量分析. 可得到小於10um 空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊。
2. 維持10um以下的空間分辨率元素成分包括化學(xué)態(tài)的深度分析（角分辨方式,,氬離子或團(tuán)簇離子刻蝕方式）
3. 線掃描或面掃描以得到線或面上的元素或化學(xué)態(tài)分布。
4. 成像功能。
5. 可進(jìn)行樣品的原位處理 AES：1.可進(jìn)行樣品表面的微區(qū)選點(diǎn)分析（包括點(diǎn)分析，線分析和面分析） 2.可進(jìn)行深度分析適合： 納米薄膜材料，微電子材料，催化劑，摩擦化學(xué)，高分子材料的表面和界面研究