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    101. 反滲透膜進(jìn)水zui大允許二氧化硅濃度多少？
    zui大允許二氧化硅的濃度取決于溫度、pH值以及阻垢劑，通常在不加阻垢劑時(shí)濃水端zui高允許濃度為100ppm，某些阻垢劑能允許濃水中的二氧化硅濃度zui高為240ppm，請(qǐng)咨詢阻垢劑供應(yīng)商。
    102. 鉻對(duì)RO膜有何影響？
    某些重金屬如鉻會(huì)對(duì)氯的氧化起到催化作用，進(jìn)而引起膜片的不可逆性能衰減。這是因?yàn)樵谒蠧r6+比Cr3+的穩(wěn)定性差。似乎氧化價(jià)位高的金屬離子，這種破壞作用就更強(qiáng)。因此，應(yīng)在預(yù)處理部分將鉻的濃度降低或至少應(yīng)將Cr6+還原成Cr3+。
    103. 如何從水中脫氯？
    優(yōu)選的方法是添加亞硫酸氫鈉，其它常用的方法為使用活性炭吸附，但要注意活性炭脫氯的同時(shí)會(huì)發(fā)生粉末化。在某些工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域則使用亞硫酸氫銨脫氯。
    104. RO系統(tǒng)一般需要何種預(yù)處理？
    通常的預(yù)處理系統(tǒng)組成如下，粗濾(～80微米)以除去大顆粒，加入次氯酸鈉等氧化劑，然后經(jīng)多介質(zhì)過濾器或澄清池進(jìn)行精密過濾，再加入亞硫酸氫鈉還原余氯等氧化劑，zui后在高壓泵入口之前安裝保安濾器。保安濾器的作用顧名思義，它是作為zui終的保險(xiǎn)措施，以防止偶然大顆粒對(duì)高壓泵葉輪和膜元件的破壞作用。含顆粒懸浮物較多的水源，通常需要更高程度的預(yù)處理，才能達(dá)到規(guī)定的進(jìn)水要求；硬度含量高的水源，建議采用軟化或加酸和加阻垢劑等，對(duì)于微生物及有機(jī)物含量高的水源，還需要使用活性炭或抗污染膜元件。
    105. 陶氏FILMTEC膜元件如何制造出來的？
    包括兩個(gè)步驟：*步為制造陶氏FILMTEC?FT30平板膜膜片；第二步將膜片及其它材料按要求卷制成卷式膜元件，陶氏生產(chǎn)過程高度自動(dòng)化的先進(jìn)全自動(dòng)生產(chǎn)線，每一步均由專門的計(jì)算機(jī)診斷系統(tǒng)控制，使得FILMTEC元件成為*膜工業(yè)界性能更一致、更可靠、壽命更長(zhǎng)的品牌。
    106. 在RO系統(tǒng)中保安濾器濾芯的孔徑應(yīng)選多大？
    多數(shù)情況下，選擇5?m的過濾精度的濾芯，但當(dāng)膠體、硅含量高的進(jìn)水，建議采用孔徑更小的濾芯，請(qǐng)參閱本手冊(cè)有關(guān)章節(jié)的詳細(xì)說明。
    107. 陶氏FILMTEC膜元件的*之處是什么？
    每一支膜元件均采用陶氏FILMTEC?FT30膜片，它被世界膜工業(yè)界*為具有zui寬的操作pH范圍(2～11)和zui寬的清洗pH范圍(1～12)，它特別牢固，表現(xiàn)為長(zhǎng)久不變的*分離性能；
組成膜元件的膜葉片更短，這樣就大幅度地降低了膜葉從里到外的產(chǎn)水壓力不均勻性，使得膜葉各處的水通量值更加均勻，提高了元件抗污染性；
    采用全自動(dòng)的粘接技術(shù)，獲得精密、準(zhǔn)確、均勻的密封線，提高膜元件的物理完整性；
精密的葉片組裝技術(shù)能夠準(zhǔn)確的插入更多的葉片，有效膜面積更高，同時(shí)確保任何膜元件均有一致的膜面積，在不犧牲有效膜面積的條件下，采用了更寬的進(jìn)水流道。
    所有上述特點(diǎn)使得選用陶氏膜元件的系統(tǒng)故障率zui低，性能zui穩(wěn)定，維修服務(wù)zui少，實(shí)現(xiàn)“以zui低的成本，獲得zui高的產(chǎn)水品質(zhì)"。
    108. 陶氏FILMTEC膜元件質(zhì)保情況怎樣？
    我們提供統(tǒng)一的三年有限質(zhì)保。
    109. 三鹵代甲烷(THM)，(CTC)和其它低分子量含氯化合物，陶氏FILMTEC膜能脫除嗎？
    含上述鹵素的化合物如THM，CTC等在廢水、某些受污染的地下水和經(jīng)過氯等消毒過的水源中普遍存在，它們已被證明對(duì)健康存在威脅，它們屬于中等分子量的有機(jī)物，陶氏FILMTEC? RO膜對(duì)它們具有*的脫除率， 陶氏FILMTEC NF膜對(duì)它們的脫除率也很高。
    110. 壓降是怎樣定義的，為何高壓降會(huì)有問題？
    壓降定義為組件或壓力容器進(jìn)水與濃水間的壓力損失，在正常操作條件下，每支陶氏FILMTEC?元件本身的壓降為4～5psi(0.3bar)。
    隨著元件內(nèi)污染的累積，壓降會(huì)逐漸增加，高壓降是必須關(guān)注的問題，因?yàn)樗芤鹜h(yuǎn)鏡現(xiàn)象并降低系統(tǒng)的操作效率和性能，含6芯元件的外殼zui大允許壓降為60psi(4.2bar)。