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貨物所在地:上海上海市
更新時(shí)間:2024-06-30 21:00:05
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真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
常規(guī)沉積涂覆工藝的缺點(diǎn):
涂層厚度為毫米量級(jí)會(huì)影響電子產(chǎn)品的外觀及性能。
大量的化學(xué)品消耗,污染嚴(yán)重。
毛細(xì)效應(yīng),導(dǎo)致高密度器件表面無(wú)法實(shí)現(xiàn)涂層。
樣品處理前仍然需要進(jìn)行復(fù)雜的清洗工藝以確保涂層黏附性。
涂覆有方向性,影響整體防護(hù)效果。
涂覆會(huì)影響樣品的射頻穿透性及產(chǎn)品的外觀。
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備產(chǎn)品特點(diǎn):
1.13.56MHz射頻電源與自動(dòng)匹配系統(tǒng),具備優(yōu)異的穩(wěn)定性與可重復(fù)性。
2.優(yōu)化的氣體饋入與分布設(shè)計(jì),提供優(yōu)秀的處理均勻性。
3.可靈活設(shè)置的電極及電極的實(shí)時(shí)可控,滿足功能材料的大面積可控沉積。
4.精準(zhǔn)安全的液態(tài)源供應(yīng)系統(tǒng),滿足不同功能材料的快速大面積沉積。
5.PLC提供穩(wěn)定的過(guò)程控制,設(shè)備運(yùn)行的實(shí)時(shí)參數(shù)通過(guò)顯示屏直觀呈現(xiàn)。
6.系統(tǒng)設(shè)置多級(jí)管理權(quán)限,集簡(jiǎn)易的操作體驗(yàn)與嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓に嚬芸嘏c一體。
PMC參數(shù):
最大涂覆面積:150mm*150mm
頻率:13.56MHz
功率:0-200W
物料容積:10-150ml
溫控范圍:加熱(室溫~200℃)保溫(室溫~200℃)
流量控制:轉(zhuǎn)子流量計(jì)
管路:最多4路氣體(同時(shí)可通入4種物質(zhì))
電源電壓:交流220V
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)