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德國OPTRIS歐普士熱像儀新研發(fā)的 optris® PI 08M 熱像儀的光譜范圍為 800 nm，可減少因未知或變化的發(fā)射率引起的測量誤差。這款紅外熱像儀結(jié)構(gòu)緊湊，由于其光譜范圍以及 575 °C 到 1900 °C 的連續(xù)測量范圍，幾乎適用于所有的 NIR 和 CO2 激光加工應(yīng)用。

德國OPTRIS歐普士熱像儀幀率為 1 kHz，并具有較高的光學(xué)分辨率，能夠地適應(yīng)不同的應(yīng)用程序。

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德國OPTRIS歐普士熱像儀主要參數(shù)

• 特殊窄帶光譜響應(yīng)為 800 nm，
  幾乎是所有 NIR 和 CO₂ 激光加工應(yīng)用的理想之選
• 廣泛的測量范圍：
  575 °C 至 1900 °C，無子范圍
• 高動(dòng)態(tài) CMOS 檢測器，分辨率高達(dá) 764 x 480 像素
• 高達(dá) 1 kHz 幀率的快速處理
• 實(shí)時(shí)模擬輸出，響應(yīng)時(shí)間為 1 ms
• 包括功能強(qiáng)大的軟件包和 SDK

optris PI 08M 的技術(shù)細(xì)節(jié)包含內(nèi)容：

USB 熱像儀，含 1 個(gè)鏡頭，
鏡頭筒帶保護(hù)窗，
USB 線纜 (1 m)，
桌上三腳架，
PIF 電纜，含接線盒 (1 m)，
optris® PIX Connect 軟件包，
鋁制裝載盒
選件：冷卻套、耐高溫電纜

• 探測裝置： CMOS (15 μm x 15 μm)
• 光學(xué)分辨率（可切換）/幀率：
  764 x 480 像素 @ 32 Hz
  382 x 288 像素 @ 80 Hz（可切換至 27 Hz）
  72 x 56 像素 @ 1 kHz
  764 x 8 像素 @ 1 kHz（快速線掃描模式）
• 光譜范圍： 800 nm
• 溫度量程：
   575 ...1900 °C（27 Hz 模式）
   625 ...1900 °C（80 Hz 和 32 Hz  模式）
  750 ...1900 °C（1 kHz 模式）
• 光學(xué)分辨率：
  FOV @ 382 x 288 px：
  13° x 10° (f = 25 mm)
  
  FOV @ 764 x 480 px：
  26° x 16° (f = 25 mm)
• 熱敏性 (NETD)¹⁾：
  27 Hz、32 Hz 和 80 Hz 模式 < 2 K (1000 °C)
  1 kHz 模式 < 3 K (1400 °C)
• 精度：讀數(shù) ±1 %(<1500 °C)/ ±1.5 % (>1500 °C)
• PC 接口：USB 2.0/USB 至 GigE (PoE) 轉(zhuǎn)換選件

• 高速模擬輸出（@ 1 kHz 模式）：
  8x8 像素的 0–10 V 實(shí)時(shí)輸出（響應(yīng)時(shí)間 1 ms）

• 標(biāo)準(zhǔn)過程接口 (PIF)：
  0–10 V 輸入、數(shù)字輸入（高 24 V）、0 – 10 V 輸出

• 可選工業(yè)過程接口 (PIF)：
  2x 0-10 V 輸入、數(shù)字輸入（高 24 V）、3x 0–10 V 輸出
  3x 繼電器（0 – 30 V/400 mA），故障安全繼電器

• 電纜長度 (USB)：

1 m（標(biāo)準(zhǔn)）、5 m、10 m
5 m 和 10 m 電纜也可用作 HT 電纜 (180 °C)

• 環(huán)境溫度 (T_Amb)： 5 ...50 °C
• 存儲(chǔ)溫度：-40 ...70 °C
• 相對(duì)濕度： 20 - 80%，無結(jié)露
• 外殼（尺寸/額定值）： 46 mm x 56 mm x 90 mm/IP 67 (NEMA 4)²⁾
• 重量： 320g，包括鏡頭
• 沖擊³⁾： IEC 60068-2-27（25 g 和 50 g）
• 震動(dòng)³⁾： IEC 60068-2-6（正弦波形）/IEC 60068-2-64（寬頻帶噪聲）
• 三腳架： 1/4-20 UNC
• 電源： USB 

¹⁾ 處于 27 Hz、32 Hz 和 80 Hz 模式 
²⁾ 僅在使用鏡頭保護(hù)筒時(shí)應(yīng)用 
³⁾ 更多詳情，請(qǐng)參見操作員手冊(cè) 

optris PI 08M 紅外測溫儀的應(yīng)用領(lǐng)域范圍

optris PI 08M 短波長紅外熱像儀可以很好地阻擋 800 nm 以上的輻射，非常適用于激光加工應(yīng)用。光譜范圍為 800 nm，受到周圍環(huán)境影響的可能性較小，因此即使面對(duì)不斷變化的發(fā)射率，也可以確保測量精。

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