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美國 AP Tech 濺射 離子源陰極 真空 Ion Sources
唐:I582I984229
美國 AP Tech 濺射 離子源陰極 真空 Ion Sources

美國 AP Tech 濺射 離子源陰極 真空 Ion Sources
APT生產(chǎn)鎵液態(tài)金屬離子源(Ga+LMIS)。由于其高亮度、長壽命、可靠性和發(fā)射穩(wěn)定性,Ga+LMIS是聚焦離子束(FIB)系統(tǒng)中使用的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)離子源。APT既可以提供單同位素來源,也可以提供雙同位素來源
AP Tech APT 生產(chǎn)鎵液態(tài)金屬離子源 (Ga LMIS) CeBix® Cold Field Emitters (CFE) Ion Sources Thermionic Emitters (TE) Zirconiated Tungsten (ZrOW) Thermal Field Emitters (TFE) 六硼化鈰 (CeBix®) 的 Sl.均 LaB6 六硼化鑭 (LaB6) 冷場發(fā)射器 (CFE) 冷陰極 提高空間分辨率 熱離子發(fā)射器 (TE) 熱離子發(fā)射陰極 電子源 離子源 離子源陰極 穩(wěn)定發(fā)射和長壽命的電子束應(yīng)用 美國 AP TECH 肖特基源 適用于需要高亮度 鋯化鎢(ZrOW) 鋯鎢 (ZrOW) 熱場發(fā)射器 (TFE) 陰極