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UV光束分析儀

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更新時(shí)間:2024/08/20 11:59:01瀏覽次數(shù):565

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UV光束分析儀/UV激光光束質(zhì)量分析儀可實(shí)現(xiàn)高分辨率實(shí)時(shí)空間光束的監(jiān)測(cè)、定量表征與強(qiáng)度分布。用于所有脈沖或連續(xù)波激光器以及非相干光源,檢測(cè)器CCD芯片上量子轉(zhuǎn)換涂層保證了UV檢測(cè)的高靈敏度。

詳細(xì)介紹

UV光束分析儀/UV激光光束質(zhì)量分析儀可實(shí)現(xiàn)高分辨率實(shí)時(shí)空間光束的監(jiān)測(cè)、定量表征與強(qiáng)度分布。主用于所有脈沖或連續(xù)波激光器以及非相干光源,檢測(cè)器CCD芯片上量子轉(zhuǎn)換涂層保證了UV檢測(cè)的高靈敏度。


主要特點(diǎn)

      UV光束分析儀/UV光束特性分析

               ‐ zhun分子激光器 @193nm, 248nm, 351nm

               ‐ 固體激光器 @355nm, 266nm, 213nm

               ‐ UV LEDs, UV/VUV lamps

       寬光譜靈敏度:VUV ‐ DUV ‐ Vis ‐ NIR

       實(shí)時(shí)光學(xué)調(diào)節(jié)

      基于ISO光束參數(shù)測(cè)量

       衰減單元(可選)


UV光束分析儀

Homogenized KrF

excimer laser (248nm)


UV光束分析儀

Mask projection of

excimer laser beam



主要技術(shù)規(guī)格

       波長(zhǎng)范圍~100nm …1100nm

           (<~320nm:高線性和穩(wěn)定性的量子轉(zhuǎn)換涂層;<190nm: N2/ Ar purging required)

       視場(chǎng)尺寸:20mmX14mm(其他尺寸可選)

       相機(jī):CMOS 4MPixel, 12 Bit, USB3.0

       幀率:up to 15fps

       曝光時(shí)間:20us to 1s

       衰減單元:棱鏡衰減器(因子1000:1)

                        中性密度濾片

UV光束分析儀

Near‐field and far‐field

profile of ArF excimer laser

(193nm), indicating 2nd

moment beam widths

UV光束分析儀

Beam profile of

misaligned 355nm laser


UV光束分析儀

Beam Analysis software



光束測(cè)試軟件

UV光束分析儀


測(cè)試基于ISO標(biāo)準(zhǔn)

Parameter

Standard

Beam diameter光束直徑

ISO 11146

Divergence

ISO 11146

Beam profile光束剖面

ISO 13694

Pointing 指向/ pos. Stability位置穩(wěn)定性

ISO 11670

M2 質(zhì)量因子/ Focusability聚焦性

ISO 11146

Wavefront 波前 / Phase distribution相位分布

ISO 15367

Coherence 相干

-

Around 20 various camera types are supported




巨力光電(北京)科技有限公司立足于北京市副中心通州區(qū),專門(mén)經(jīng)銷歐洲、美國(guó)、日本等國(guó)家制造的科學(xué)儀器設(shè)備,為客戶提供完備的售前咨詢和售后服務(wù)、技術(shù)支持。公司骨干在該行業(yè)有超過(guò)10年的經(jīng)驗(yàn),專業(yè)的服務(wù)水平、完善的售后服務(wù)體系。

目前主要產(chǎn)品涉及材料科學(xué)、微納米技術(shù)、表面測(cè)量和光電器件、光伏產(chǎn)品、半導(dǎo)體器件的檢測(cè)與研發(fā)等領(lǐng)域。公司本著以科技為導(dǎo)向、以客戶為中心、以服務(wù)為宗旨,竭誠(chéng)為新老客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)!


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