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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
BMF nanoArch® S140是可以實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shù)。
詳細(xì)介紹
BMF nanoArch® S140 系統(tǒng)簡(jiǎn)介
nanoArch S140是可以實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì)，被認(rèn)為是目前有前景的微納加工技術(shù)之一。
科研級(jí)3D打印系統(tǒng)
nanoArch® S140是工業(yè)級(jí)3D打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，可以兼顧微尺度和宏觀樣件的打印，從而實(shí)現(xiàn)超高精度大幅面的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
BMF nanoArch® S140 系統(tǒng)性能：
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學(xué)精度 10μm |
| XY打印精度 10~40μm | 打印層厚 10~40μm | 打印樣品尺寸 Mode Single：19.2mm*10.8mm*45mm |
| 樣品高度 10mm in typical； | 打印速度 288~1152mm3/h | 打印文件格式 STL |
| 設(shè)備功率 3000W | 系統(tǒng)外形尺寸 主機(jī)：650(L)*650(W)*750mm(H) | 重量 300kg |
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
個(gè)性化
405nm固化波段的光敏樹脂材料 ，支持透明樹脂，柔性樹脂，硬性樹脂，納米顆粒摻雜復(fù)合樹脂，4D打印樹脂，生物醫(yī)療樹脂等，需適配不同的工藝和模型，不保證打印性能
系統(tǒng)特點(diǎn)
高精度
（XY打印精度高達(dá)10μm）
（XY打印精度高達(dá)10μm）
低層厚
（10μm~40μm的打印層厚）
（10μm~40μm的打印層厚）
微尺度大幅面的打印能力
光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，自動(dòng)對(duì)焦功能
優(yōu)良的光源穩(wěn)定性
配備完善的樣品后處理組件 包括抽真空及紫外后固化
應(yīng)用案例
