目錄:北京格微儀器有限公司>>離子濺射儀>> GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環(huán)保,能源,電子,電氣,綜合 | 濺射電壓 | 300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化 |
| 濺射電流 | 0-200mA連續(xù)可調(diào),步長10mA | 濺射時間 | 0-9999s,?連續(xù)可調(diào)步長1s |
| 樣品臺直徑 | ≥90mm | 真空室 | 高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ170×130mm |
沒有熱損傷，效率更高，顆粒度更細，更適合高分辨電鏡。
高真空磁控離子濺射儀應用領域
1、高分辨掃描電鏡樣品制備（實際放大倍數(shù)≥100K）。
2、電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電極。
設備配置與技術參數(shù)
| 名稱&型號 | 高真空磁控離子濺射儀GVC-2000T |
| 真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵（進口 ）：德國萊寶90i （單磁懸浮分子泵，抽速為90L/s） 旋片式真空泵：浙江飛越VRD-4 （抽速為 1 .1L/s） |
| 真空測量 | 全量程復合真空規(guī)（進口）：丹麥Sens4 VPM-5 量程范圍:1.0E5Pa-1E-4Pa |
| 系統(tǒng)極限真空 | ≤5E-3Pa |
| 濺射電源 | 磁控濺射電源,最大功率150W |
| 可用靶材 | 金、鉑金、銀、銅、鋁、鈦、鎳、鐵、鉬、鎢等金屬靶材 |
| 濺射電壓 | 300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化 |
| 濺射電流 | 0-200mA連續(xù)可調(diào),步長10mA |
| 濺射時間 | 0-9999s, 連續(xù)可調(diào)步長1s |
| 操作界面 | 7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480 |
| 抽氣節(jié)拍 | ＜15分鐘 |
| 控制方式 | 只需設定濺射電流和時間即可，全自動控制 具備預濺射擋板（預濺射時間可設定),全自動控制 |
| 保護功能 | 軟硬件互鎖、防止誤操作，具備電流、真空保護等 |
| 樣品臺直徑 | ≥90mm |
| 真空室 | 高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ170×130mm |
| 電源供電 | 220V 50Hz 最大功率800W |
| 尺寸&重量 | 重量 420（長) ×330（深) ×450mm（高）、 25 kg （凈重) |
| 冷卻方式 | 風冷 |
| 選配 | 樣品臺選擇、膜厚控制、溫度監(jiān)測等 |
鍍膜樣品示例：
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