目錄:廣州金程科學(xué)儀器有限公司>>旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀>> 優(yōu)萊博MD52短程分子蒸餾設(shè)備
| 每次處理量范圍 | 101-500kg | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品,生物產(chǎn)業(yè),制藥,綜合 |
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短程（分子）蒸餾特別適用于高沸點(diǎn)物料、熱敏性物料以及易氧化物料的蒸餾，通過高真空，大大降低物料的沸點(diǎn)，使高沸點(diǎn)和熱敏性物料在低溫下實(shí)現(xiàn)分離；通過高真空，連續(xù)、快速、高湍流的物料成膜，形成表面蒸發(fā)，使易氧化物料實(shí)現(xiàn)快速分離。
工作原理及優(yōu)點(diǎn)：
| 原理 | 優(yōu)點(diǎn) | |
| 薄膜蒸發(fā)
| 在被加熱的蒸發(fā)器圓筒形內(nèi)表面，一個(gè)旋轉(zhuǎn)的刮膜系統(tǒng)將原料刮成均勻的薄膜。刮膜系統(tǒng)能夠使液膜形成良好的湍流效果，優(yōu)化傳熱和傳質(zhì)過程，從而能大大地提高蒸發(fā)效率。 原料中的低沸點(diǎn)組分在短時(shí)間內(nèi)從液膜中蒸發(fā)出來。 物料在蒸發(fā)器內(nèi)的停留時(shí)間非常短。蒸發(fā)出輕組分氣體在外置冷凝器中冷凝。重相的濃縮物由蒸發(fā)器底部持續(xù)排出。
在薄膜蒸發(fā)器中，能夠處理高粘度的物料以及易于結(jié)晶的物料。薄膜蒸發(fā)器內(nèi)操作壓力可以低至 1mbar。
| 連續(xù)的蒸餾過程 物料停留時(shí)間短 高蒸發(fā)率 由于操作壓力低，因而所需的加 熱溫度低 可以處理高沸點(diǎn)、高粘度物料 薄膜蒸發(fā)器可以連接帶有一定理論塔板數(shù)的精餾柱 蒸發(fā)器內(nèi)壁不易結(jié)垢
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| 短程蒸餾
| 短程蒸發(fā)器是將薄膜蒸發(fā)器和冷凝器集成在一體的設(shè)備。輕組分的蒸汽在短程蒸發(fā)器內(nèi)置冷凝器上冷凝。蒸發(fā)面和冷凝面之間的路徑非常短，因此，氣相的壓力降非常低。
| 連續(xù)的蒸餾過程 高湍流、高蒸發(fā)率：被刮成的膜始終保持高湍流的狀態(tài)，增加了質(zhì)量和熱量的傳遞 停留時(shí)間短：降低了產(chǎn)品的熱應(yīng)力 一步蒸餾：無需循環(huán) 在蒸發(fā)器內(nèi)壁上形成很薄的液膜：無靜液面高度的影響 無產(chǎn)品結(jié)焦：在加熱的蒸發(fā)器上由于薄膜的高湍流，使產(chǎn)品不會滯留在蒸發(fā)器表面 可進(jìn)行高粘度產(chǎn)品的蒸餾：提供特殊設(shè)計(jì)的刮膜系統(tǒng) 操作壓力低：極低的操作壓力可降低物質(zhì)的沸點(diǎn)，zui低可達(dá) 10-3mbar（0.1Pa） 裝置設(shè)計(jì)非常緊湊
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薄膜蒸發(fā)
在被加熱的蒸發(fā)器圓筒形內(nèi)表面，一個(gè)旋轉(zhuǎn)的刮膜系統(tǒng)將原料刮成均勻的薄膜。刮膜系統(tǒng)能夠使液膜形成良好的湍流效果，優(yōu)化傳熱和傳質(zhì)過程，從而能大大地提高蒸發(fā)效率。 原料中的低沸點(diǎn)組分在短時(shí)間內(nèi)從液膜中蒸發(fā)出來。 物料在蒸發(fā)器內(nèi)的停留時(shí)間非常短。蒸發(fā)出輕組分氣體在外置冷凝器中冷凝。重相的濃縮物由蒸發(fā)器底部持續(xù)排出。
在薄膜蒸發(fā)器中，能夠處理高粘度的物料以及易于結(jié)晶的物料。薄膜蒸發(fā)器內(nèi)操作壓力可以低至1mbar。
短程蒸餾
短程蒸發(fā)器是將薄膜蒸發(fā)器和冷凝器集成在一體的設(shè)備。輕組分的蒸汽在短程蒸發(fā)器內(nèi)置冷凝器上冷凝。蒸發(fā)面和冷凝面之間的路徑非常短，因此，氣相的壓力降非常低。
短程分子蒸餾設(shè)備旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀
薄膜蒸發(fā)的優(yōu)點(diǎn)：
連續(xù)的蒸餾過程
物料停留時(shí)間短
高蒸發(fā)率
由于操作壓力低，因而所需的加 熱溫度低
可以處理高沸點(diǎn)、高粘度物料
薄膜蒸發(fā)器可以連接帶有一定理論塔板數(shù)的精餾柱
蒸發(fā)器內(nèi)壁不易結(jié)垢
短程蒸餾的優(yōu)點(diǎn)：
連續(xù)的蒸餾過程
高湍流、高蒸發(fā)率：被刮成的膜始終保持高湍流的狀態(tài)，增加了質(zhì)量和熱量的傳遞
停留時(shí)間短：降低了產(chǎn)品的熱應(yīng)力
一步蒸餾：無需循環(huán)
在蒸發(fā)器內(nèi)壁上形成很薄的液膜：無靜液面高度的影響
無產(chǎn)品結(jié)焦：在加熱的蒸發(fā)器上由于薄膜的高湍流，使產(chǎn)品不會滯留在蒸發(fā)器表面
可進(jìn)行高粘度產(chǎn)品的蒸餾：提供特殊設(shè)計(jì)的刮膜系統(tǒng)
操作壓力低：極低的操作壓力可降低物質(zhì)的沸點(diǎn)，zui低可達(dá) 10-3mbar（0.1Pa）
裝置設(shè)計(jì)非常緊湊
短程（分子）蒸餾設(shè)備推薦配置：
| 功能系統(tǒng) | 參數(shù)與配置 | MD52基礎(chǔ)套裝 | MD52標(biāo)準(zhǔn)套裝 | MD52進(jìn)階套裝 | MD52專家套裝 |
| 蒸發(fā)系統(tǒng) | 蒸發(fā)面積㎡ | 0.052 | 0.052 | 0.052 | 0.052 |
| zui大處理能力L/h | 0.1-2L/h | 0.1-2L/h | 0.1-2L/h | 0.1-2.8L/h（齒輪泵流量） | |
| 刮膜轉(zhuǎn)速（rpm） | 60-500 | 60-500 | 60-500 | 60-500 | |
| 蒸發(fā)器推薦使用加熱循環(huán)器 | ITHERM-B1 | HE-4 | SE-6 | MAGIO MX-BC6 | |
| zui低真空度（mbar） | 0.05 | 0.05 | 0.001 | 0.001 | |
| 冷凝系統(tǒng) | 冷凝面積㎡（輕相蒸發(fā)后經(jīng)內(nèi)冷凝器快速冷卻，系統(tǒng)內(nèi)蒸汽壓低，效率高，不需要大的冷凝面積） | 0.08 | 0.08 | 0.08 | 0.08 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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