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當(dāng)前位置：天津瑞利光電科技有限公司>> Obducat納米壓印光刻工具EITRE 3
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地天津市
更新時(shí)間：2024-10-23 14:31:39瀏覽次數(shù)：121次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 化工儀器網(wǎng)| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,電氣 |
|---|
產(chǎn)品名稱：Obducat納米壓印光刻工具EITRE 3
產(chǎn)品型號(hào)：EITRE 3
產(chǎn)品介紹
易于使用的半自動(dòng)化經(jīng)濟(jì)型工具系列，適用于尺寸（max）為 8“ x 8" 的基底，可在微米和納米尺度上進(jìn)行圖案復(fù)制。EITRE 工具具有多種壓印工藝能力和廣泛的配置可能性，因此用途特別廣泛。
性能特點(diǎn)
l EITRE 納米壓印光刻（NIL）工具提供了一種半自動(dòng)、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的光刻解決方案，可以在微米和納米范圍內(nèi)復(fù)制圖案。
l EITRE 工具具有多種壓印工藝能力和廣泛的配置可能性，因此用途特別廣泛。
l 易于使用的半自動(dòng)工具，界面友好。
l 嵌入式 SoftPress 技術(shù)可確保對(duì)整個(gè)壓印區(qū)域的殘余層厚度進(jìn)行控制，從而實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的圖案轉(zhuǎn)移和簡單的下游工藝開發(fā)。
l 工具的靈活性允許使用多種壓印工藝，如熱壓印、熱NIL、UV NIL 和 Obducat 同步熱壓和 UV (STU) 工藝。
l EITRE 工具適用于固態(tài)照明、微型光學(xué)和光子元件和生命科學(xué)設(shè)備、片上實(shí)驗(yàn)室、MEMS/NEMS 和半導(dǎo)體等應(yīng)用領(lǐng)域的研究和開發(fā)。
l 全面積的壓印。
l 紫外線模塊可配置為 50-400 mW/cm2 的基板級(jí)強(qiáng)度。
l 根據(jù)歐洲安全法規(guī)和 CE 標(biāo)志設(shè)計(jì)。
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)地：瑞典
基底尺寸：≤ 78 mm ?
壓印壓力（min）：6-8 bar（取決于 CA 的入口壓力）
壓印壓力（max）：70 bar
壓印溫度（min）：環(huán)境溫度
壓印溫度（max）：250°C（使用紫外模塊時(shí)為 200°C）
壓印溫度設(shè)置：精度± 2 度
無塵室適用性：Class 100
室溫：18-32°C
相對(duì)濕度：40 - 65%
電源：220-240 VAC，單相，接地，預(yù)熔絲至 16A，50/60 Hz，3 kVA
壓縮空氣：6 - 8 bar，30 l / min
排氣流量：1000 - 2000 l / min
尺寸（長 x 寬 x 高）：80 x 60 x 180 厘米
重量：約250 千克
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