目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>薄膜材料生長成套設備>> 高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV
產品簡介： 高真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-80-C2HV 是由單溫區(qū)管式爐、兩路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組 成，工作溫度可達 1200℃ ，混氣系統(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣，然后導入管式爐內部，本系統(tǒng) 極限真空度可達 10-5 torr。
產品型號 | 高真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-80-C2HV |
安裝條件 | 本設備要求在海拔 1000m 以下， 溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：不需要 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氣體，需自備氣瓶氣源 4、工作臺： 尺寸 1600mm×600mm×700mm ，承重 150kg 以上 5、通風裝置：需要 |
主要特點 | 1、雙層殼體，配有風冷系統(tǒng)，殼體溫度<60℃。 2 、內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層，可以提高反射率和保護爐膛潔凈度。 3 、采用 PID 控制器， 可以設置 30 段升降溫程序。 4 、質量流量系統(tǒng)采用 316 不銹鋼制作而成。 |
5 、已通過 CE 認證。 | |
技術參數 | 管式爐 1 、電源： AC 220V 50Hz/60Hz |
2、石英管： 外徑 ?80mm ，內徑 ?75mm ，長 1000mm 3、加熱元件： 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲（表面涂有氧化鋯） | |
4、加熱區(qū)域： 440mm 5、恒溫區(qū)域： 150mm 6 、工作溫度： 1200℃ ，連續(xù)工作 1100℃ 7、升降溫速率： 20℃/min 8、控溫精度：± 1℃ | |
9、熱電偶： K 型 | |
高真空機組 1、殼體： 600mm×600mm×700mm ，承重 275kg 2、真空泵： 德國 Pfeiffer 真空泵 3、顯示屏： LCD 數字顯示 4、抽氣速率： N2-33L/s ，He-39L/s ，H2-32L/s 5、工作范圍： 1000mtorr-10-7mtorr 6、極限： 10-8mtorr （無泄漏） | |
質量流量混氣系統(tǒng) 1、電源： 單相 AC208V-240V 50Hz/60Hz 2、功率： 18W 3、尺寸： 600mm×600mm×700mm 4、混氣箱： ?80mm×120mm |
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