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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 | 重量 | 400 g |
|---|
技術(shù)參數(shù)：
量程
0.00 to 4.00 mg/L SiO2
解析度
0.01 mg/L
精度
讀數(shù)的±1%±0.5mg/L
光學(xué)系統(tǒng)
580 nm，防水樣品池，具有溫度補(bǔ)償LED光學(xué)系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
二氧化硅實驗儀（德國）型號：ET8100
技術(shù)參數(shù)：
ET8100二氧化硅測定儀 | |
量程 | 0.00 to 4.00 mg/L SiO2 |
解析度 | 0.01 mg/L |
精度 | 讀數(shù)的±1%±0.5mg/L |
光學(xué)系統(tǒng) | 580 nm，防水樣品池，具有溫度補(bǔ)償LED光學(xué)系統(tǒng) |
校準(zhǔn)模式 | 自動零點校正，采用SMD微處理技術(shù)，具有出廠校準(zhǔn)和用戶自定義校準(zhǔn)模式 |
供電方式 | 1×9V電池，具有自動關(guān)機(jī)節(jié)電功能 |
使用環(huán)境 | 0 to 40℃；RH 30 to 90% 無冷凝 |
尺寸重量 | 190×110×55 mm/400 g |
配置：
主機(jī)、ET 517671二氧化硅試劑（片劑）、ET197620璃玻比色皿（2個）、ET197635比色皿清潔布（2塊）、中英文使用說明書、ET721002儀器攜帶箱
量程 | 0.00 to 4.00 mg/L SiO2 |
解析度 | 0.01 mg/L |
精度 | 讀數(shù)的±1%±0.5mg/L |
光學(xué)系統(tǒng) | 580 nm，防水樣品池，具有溫度補(bǔ)償LED光學(xué)系統(tǒng) |
校準(zhǔn)模式 | 自動零點校正，采用SMD微處理技術(shù)，具有出廠校準(zhǔn)和用戶自定義校準(zhǔn)模式 |
供電方式 | 1×9V電池，具有自動關(guān)機(jī)節(jié)電功能 |
使用環(huán)境 | 0 to 40℃；RH 30 to 90% 無冷凝 |
尺寸重量 | 190×110×55 mm/400 g |
配置：
主機(jī)、ET 517671二氧化硅試劑（片劑）、ET197620璃玻比色皿（2個）、ET197635比色皿清潔布（2塊）、中英文使用說明書、ET721002儀器攜帶箱
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